[发明专利]一次溅射获得多种具有不同W/Ti比例的W-Ti-N薄膜的方法

权利要求书

1.一种一次溅射获得多种具有不同W/Ti比例的W-Ti-N薄膜的方法，其特征在于包括如下步骤：

(1)溅射设备采用PSII型双放电控微波ECR等离子体全方位注入装置，溅射靶材选用纯金属W靶(纯度≥99.99％)和纯金属Ti靶(纯度≥99.99％)，二者相互呈90°并且均与溅射台之间呈45°放置，双靶中心连线距试样台83mm，基材选用40Cr不锈钢(尺寸为10mm×10mm×3mm)，并将其按照由左及右的顺序依次摆放；

(2)对不锈钢试样进行反溅射清洗，功率100W，清洗10min；

(3)将不锈钢试样送入主溅射室中，靶与样品均采用循环水水冷；

(4)向主溅射室中加入反应气体N₂(纯度≥99.99％)和溅射气体Ar(纯度≥99.99％)，二者的比例为1∶2～1∶5，初始真空度≥5×10^-4Pa，双靶共溅射，功率均为100W～300W，溅射1h～3h；

(5)溅射完毕，将不锈钢试样冷却至室温，再将其放置在瓷舟中送入高温箱式炉内，按照10℃/min的升温速率将炉内温度升高至800℃保持1h，后随炉冷却至室温即获得具有多种不同W/Ti比例的W-Ti-N薄膜。

2.按照权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(4)中N₂和Ar的比例为1∶3。

3.按照权利要求1所述的方法，其特征在于，所述所述步骤(4)中的功率为200W。