[发明专利]一种磁光电流传感器及其制造方法有效
申请号: | 200910183929.1 | 申请日: | 2009-08-13 |
公开(公告)号: | CN101672870A | 公开(公告)日: | 2010-03-17 |
发明(设计)人: | 焦新兵;蒋春萍 | 申请(专利权)人: | 苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
主分类号: | G01R19/00 | 分类号: | G01R19/00;G01R15/24 |
代理公司: | 南京苏科专利代理有限责任公司 | 代理人: | 陈忠辉 |
地址: | 215125江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电流传感器 及其 制造 方法 | ||
1.一种磁光电流传感器的制造方法,沿光路设置光源、起偏器、磁光传感单元、检偏器及方位探测器,其特征在于:首先制备清洁、干燥的磁光材料;然后在真空条件下对磁光材料生长永磁薄膜;再在永磁薄膜上生长SiN或SiO2薄膜保护层;最后利用永磁机对磁光传感单元的永磁薄膜进行充磁;所述磁光电流传感器,包括沿光路设置的光源、起偏器、磁光传感单元、检偏器及方位探测器,其中所述磁光传感单元为保护层、永磁薄膜和磁光材料层叠生长结构,且所述保护层朝向光源一侧,磁光材料朝向检偏器和方位探测器一侧。
2.根据权利要求1所述的一种磁光电流传感器的制造方法,其特征在于:所述永磁薄膜的生长工艺为磁控溅射或电子束蒸发。
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