[发明专利]一种双相纳米多层氮化铬铝涂层及其沉积方法无效
| 申请号： | 200910186801.0 | 申请日： | 2009-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN101717914A | 公开（公告）日： | 2010-06-02 |
| 发明（设计）人： | 李明升;张迎;张淑娟;范永中 | 申请（专利权）人： | 江西科技师范学院 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35;C23C14/32;B32B9/00 |
| 代理公司： | 江西省专利事务所 36100 | 代理人： | 杨志宇 |
| 地址： | 330013 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 多层 氮化 涂层 及其 沉积 方法 | ||
1.一种双相纳米多层氮化铬铝涂层，其特征在于：由B1NaCl结构的Cr1-xAlxN 及B4ZnS结构的Cr1-yAlyN交替沉积在基体上形成，单层厚度为0.5-50纳米，涂层 总厚度为0.5-30微米。
2.根据权利要求1所述的一种双相纳米多层氮化铬铝涂层，其特征在于： 交替的两层膜为不同相结构和不同的元素组成，其中一相为B1-Cr1-xAlxN， 0.1＜x＜0.75，另一相为B4-Cr1-yAlyN，0.75＜y＜1。
3.一种双相纳米多层氮化铬铝涂层的沉积方法，其特征在于：采用离子 镀技术、磁控溅射技术或混合的离子镀和磁控溅射技术，通过两靶共沉积、交 替改变两靶功率的方法；或者通过两不同成分的靶材交替沉积的方法获得一种 双相纳米多层氮化铬铝涂层；两靶所用靶材分别为Cr、Al靶或成分不同的CrAl 合金靶；两靶交替溅射时，采用CrAl合金靶，其中一靶的Al含量(at％)低于 75％，另一靶的Al含量(at％)高于75％，单层厚度由各靶对基体单次溅射时间 及功率决定；通过两靶共沉积、交替改变两靶功率时，两靶分别采用Cr靶和Al 靶，通过周期性同步调节两靶功率，使两靶周期性工作在两个功率下，单层厚 度由高功率、低功率的沉积时间决定。
4.根据权利要求3所述的一种双相纳米多层氮化铬铝涂层的沉积方法，其 特征在于：反应气体为Ar和N2，沉积过程中Ar的分压为0.05-2Pa，N2的分压为 0.05-2Pa。
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