[发明专利]立体艺术抛釉砖制造方法无效
申请号: | 200910193083.X | 申请日: | 2009-10-15 |
公开(公告)号: | CN102040399A | 公开(公告)日: | 2011-05-04 |
发明(设计)人: | 章云树 | 申请(专利权)人: | 章云树 |
主分类号: | C04B41/89 | 分类号: | C04B41/89 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 310000 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 立体 艺术 抛釉砖 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及的是一种立体艺术抛釉砖制造方法。
背景技术
市陶瓷砖现已成为家庭装修的主要材料,经过近二十几年的发展,陶瓷砖的制造技术已突飞猛进,和早期的产品已不可同日而语。但市场上的陶瓷砖产品,在表面效果的装饰上虽然越来越丰富,但是始终没有一种即具有艺术魅力、又能广泛使用的特殊风格的产品。
发明内容
本发明需要解决的技术问题是提供一种立体艺术抛釉砖制造方法,该种立体艺术抛釉砖制造方法生产出来的产品,其表面凹凸有致,高光洁,高亮度,图案上面的覆盖层象水晶般的透明清澈,即具有艺术品的精致及华丽,又适合家庭和高档场所的大面积使用,填补了市场空白。
本发明解决技术问题可以通过采取如下技术方案:
立体艺术抛釉砖制造方法,包括以下工艺步骤,
1)选用白色的成品砖坯做底砖;
2)根据需求设计出各种不同的图案,并将其制作成印花用的丝网;
3)将底砖表面擦干净,用自动印花机在底砖上印上不同颜色及效果的图案;
4)在印上不同颜色及效果的底砖上再覆盖上不同图案的熔块层;
5)把上述覆盖上熔块层的底砖经过窑炉烧成,在窑炉920至1020℃的温度下,约一个小时烧成后,使底砖表面熔块层熔合成透明的玻璃体,熔块下面的图案颜色呈现出来;
6)把烧成后的砖体经过抛光机抛光,将表面的熔块抛平,再经过自动增光机增光处理后,使产品表面就会变得晶莹剔透,熔块层下面的颜色清晰丰富;
7)经过分选包装后得到最终的产品成品。
本发明具有以下技术效果:
本发明制造方法得出的产品表面就会变得晶莹剔透,熔块层下面的颜色清晰丰富。且由于熔块图案的沟槽处未抛光,其光泽与表面抛光处的光泽形成强烈的反差,使整个产品立体感增强。与传统的抛光砖及釉面砖相比,表面光泽度高,颜色饱满,且绝对的不吸污,避免了很多抛光砖的吸污问题,且不象抛光砖及釉面砖一样是一个平整的表面,没有立体感,同时还可根据需求做成各种各样的单件及拼图,具有传统的陶瓷砖不可达到的装饰效果,属于一种全新工艺及技术的产品。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明进行具体描述。
立体艺术抛釉砖制造方法,采用以下工艺步骤,
1)选用白色的成品砖坯做底砖。
2)根据需求设计出各种不同的图案,并将其制作成印花用的丝网。
3)将底砖表面擦干净,用自动印花机在底砖上印上不同颜色及效果的图案。
4)在印上不同颜色及效果的底砖上再覆盖上不同图案的熔块层。
5)把上述覆盖上熔块层的底砖经过窑炉烧成,在窑炉920至1020℃的温度下,约一个小时烧成后,使底砖表面熔块层熔合成透明的玻璃体,熔块下面的图案颜色呈现出来。印好花及覆盖上熔块层的底砖,由于其表面是松散的,必须经过窑炉烧成。
6)把烧成后的砖体经过抛光机抛光,将表面的熔块抛平,再经过自动增光机增光处理后,使产品表面就会变得晶莹剔透,熔块层下面的颜色清晰丰富。由于熔块图案的沟槽处未抛光,其光泽与表面抛光处的光泽形成强烈的反差,使整个产品立体感增强。
7)经过分选包装后得到最终的产品成品。
本发明制造方法得出的产品表面就会变得晶莹剔透,熔块层下面的颜色清晰丰富,整个产品立体感增强。与传统的抛光砖及釉面砖相比,表面光泽度高,颜色饱满,且绝对的不吸污,避免了很多抛光砖的吸污问题。本发明的制造工艺,可替代抛光砖及釉面砖的制造工艺。
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