[发明专利]一种磁控溅射装置的可旋转样品位

权利要求书

1.一种用于磁控溅射装置样品位可旋转的辅助装置，包括磁控溅射装置及配置在装置中的磁控溅射靶(10)，其特征在于：呈圆环形的绝缘底板(7)套置在磁控溅射靶(10)底部，在绝缘底板(7)上安装若干垂直滚动的滚动轴承(6)，滚动轴承(6)支撑一个水平配置旋转的大齿轮(3)，大齿轮(3)的上方配置筒式的支撑管(4)，支撑管(4)的顶部为样品位(5)，大齿轮(3)的外侧与水平配置的小齿轮(1)啮合，小齿轮(1)由电机(2)驱动。

2.根据权利要求1所述用于磁控溅射装置样品位可旋转的辅助装置，其特征在于所述支撑管(4)高度可变化。

3.根据权利要求1所述用于磁控溅射装置样品位可旋转的辅助装置，其特征在于所述支撑管(4)的顶部开设若干缺口作为样品位(5)。

4.根据权利要求3所述用于磁控溅射装置样品位可旋转的辅助装置，其特征在于所述支撑管(4)的顶部开设对称的两个缺口作为样品位(5)。

5.根据权利要求1所述用于磁控溅射装置样品位可旋转的辅助装置，其特征在于所述大齿轮(3)的下表面开设一圈与滚动轴承(6)相嵌的环形凹槽(8)。

6.根据权利要求1所述用于磁控溅射装置样品位可旋转的辅助装置，其特征在于所述滚动轴承(6)的数量为3或4个。

7.根据权利要求1所述用于磁控溅射装置样品位可旋转的辅助装置，其特征在于所述大齿轮(3)与支撑管(4)由螺钉装配连接。

8.根据权利要求1所述用于磁控溅射装置样品位可旋转的辅助装置，其特征在于所述电机(2)安装在绝缘底板(7)上，所述绝缘底板(7)由绝缘地脚螺钉(9)支撑在磁控溅射装置内腔底面上。

9.根据权利要求1所述用于磁控溅射装置样品位可旋转的辅助装置，其特征在于所述支撑管(4)的内腔与磁控溅射靶(10)同轴心配置。

10.根据权利要求1所述用于磁控溅射装置样品位可旋转的辅助装置，其特征在于所述电机(2)由磁控溅射装置内部取电，匀速旋转。