[发明专利]具有光和温度响应性的两亲性嵌段共聚物及其制备方法

权利要求书

1.式(a)的两亲性嵌段共聚物：

其中n为5-2500，i为0-500，j为0-500；

X是卤素原子Br或者Cl；R¹是H，或者是C₁～C₁₈的取代或未取代的烃基，所述的烃基是饱和的或者不饱和的，或上述烃基的衍生物；

R²是C₁～C₁₈的取代或未取代的烃基，所述的烃基是饱和的或者不饱和的，或上述烃基的衍生物；

R³是H，或者CH₃；

R⁴是C₁～C₁₈的取代或未取代的烃基，所述的烃基是饱和的或者不饱和的，烷氧基、烷硫基、烷氨基、二烷氨基、烷酰基、烷酰氧基、烷酰胺基或烷磺酰基，或上述基团的衍生物，或R⁴在(a)式中不出现；

R⁵是H，或者是C₁～C₁₈的取代或未取代的烃基，所述的烃基是饱和的或者不饱和的，或烷氧基或是具有极性的端基；

R⁶是H，或者是CH₃；

R⁷选自以下基团中的一种：

2.一种制备如权利要求1所述的两亲性嵌段共聚物的方法，其特征在于包括如下步骤：

(1)大分子引发剂(d)的合成，反应的方程式为：

(2)嵌段共聚物的合成，以大分子引发剂(d)、具有光响应基团的单体(e)、具有温敏性基团的单体(f)为原料，加入过渡金属卤化物及配体组成的催化剂，选择合适的反应溶剂，设定合适的反应温度和反应时间，制得两亲性嵌段共聚物，其反应的方程式为：

其中，所述大分子引发剂(d)和两单体(e、f)摩尔比是1∶10-1∶1000；

过渡金属卤化物与大分子引发剂(d)的摩尔比是20∶1-1∶20；

配体与过渡金属卤化物摩尔比是20∶1-1∶20；

所述反应时间为0.5h-200h，反应温度为25℃-250℃；

所述反应溶剂选自极性或非极性的有机溶剂中一种或者几种混合。

3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述反应溶剂选自乙腈、三氯甲烷、丙酮、丁酮、环己酮、四氢呋喃、1，4-二氧六环、苯甲醚、N-甲基吡咯烷酮、N，N-二甲基甲酰胺及二甲基亚砜中的一种或几种。

4.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，单体e和单体f同时添加到体系中参加反应，得到的疏水链段是无规或交替结构；当先加入其中一种单体，后加入另一种单体，得到的疏水链段是嵌段结构，其中先后加入的两种单体任意选择其中的一种先加或后加。

5.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述的过渡金属卤化物选自铬Cr、铁Fe、镍Ni、铜Cu、钼Mo、钌Ru、铑Rh、钯Pd、铼Re或铱Ir卤化物中的一种或者几种。

6.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述的过渡金属卤化物选自Fe、Ni或Cu卤化物中的一种或几种。

7.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述的配体选自含磷或氮的有机物中的一种或者几种。

8.一种制备聚集体材料的方法，以专利CN 101434684的方法为基础，其特征是，再通过蒸馏水透析或者常温挥发的条件下除去有机溶剂，成为纯水体系。其特点是，

9.如权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述的聚集体材料其尺寸范围为5nm-200nm，形态均一，为长期稳定的球形胶束聚集体。

10.权利要求8的聚集体材料在具有光响应特性领域中的应用，所述的应用领域包括但不限于光控释放、光催化、光开关或传感领域。

11.如权利要求10所述的聚集体材料的应用，其特征是，在紫外光的照射下聚集体材料发生变形，疏松，解离破坏，当转换成可见光照射时，聚集体材料又恢复到初始状态。