[发明专利]一种紫外纳米压印抗蚀剂及其组成无效
申请号: | 200910197581.1 | 申请日: | 2009-10-23 |
公开(公告)号: | CN101706638A | 公开(公告)日: | 2010-05-12 |
发明(设计)人: | 张剑平;张静;刘彦伯;周伟民;施利毅;赵彬 | 申请(专利权)人: | 上海市纳米科技与产业发展促进中心 |
主分类号: | G03F7/028 | 分类号: | G03F7/028;G03F7/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 200237 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 紫外 纳米 压印 抗蚀剂 及其 组成 | ||
1.一种自由基固化的纳米压印抗蚀剂,按质量百分比,其组成为:
(甲基)丙烯酸酯预聚物60%~80%
单体5%~30%
光引发剂1%~6%
助剂0.01%~10%,各组份的质量之和为100%,
其中,(甲基)丙烯酸酯预聚物由超支化聚酯丙烯酸酯、芳香族(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、脂肪族(甲基)丙烯酸酯、脂肪族聚氨酯(甲基)丙烯酸酯的一种或多种组成。
单体由(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙基酯、甲氧基聚乙二醇单丙烯酸酯、乙氧化壬基酚丙烯酸酯,1,3-丁二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、二缩三丙二醇二丙烯酸酯、三缩四乙二醇二丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、丙氧化新戊二醇二丙烯酸酯、二缩三乙二醇二甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,4-丁二醇二甲基丙烯酸酯的一种或多种组成。
光引发剂由二苯甲酮、安息香双甲醚、2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-(4-吗啉基)-1-丙酮、2-苯基苄-2-二甲基胺-1-(4-吗啉苄苯基)丁酮、1-羟基-环己基-苯基甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮的一种或多种组成。
2.根据权利要求1所述的抗蚀剂成分,其特征在于,所述抗蚀剂不含硅和金属元素。
3.根据权利要求1所述的抗蚀剂成分,其特征在于,所述助剂按质量百分比,为氟含量大于2%的表面活性剂。
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