[发明专利]光掩模缺陷的定位装置及定位方法

权利要求书

1.一种定位装置，其特征在于，包括：

基座；

气浮式X-Y两坐标平面移动台，固定在基座上，用于将光掩模放置台在X-Y方向精确移动；

光掩模放置台，包括固定台和旋转台，固定台固定在所述气浮式X-Y两坐标平面移动台上，旋转台相对于所述气浮式X-Y两坐标平面移动台可旋转地连接在气浮式X-Y两坐标平面移动台上；X-Y方向反射部件和X-Y方向标记设置在光掩模放置台的固定台上；旋转台上设置若干真空孔，用于吸附固定光掩模版；

激光定位装置，设置在基座上，发出光照射到所述反射部件并接受反射光以测定光掩模放置台位置；

光掩模上设置粗对准标记和细对准标记；

光掩模激光对准装置，设置在光掩模放置台上方，该装置利用激光扫描光掩模版上的粗对准标记和细对准标记的X-Y方向的边缘以及光掩模放置台上的X-Y方向标记，测量出这些粗细对准标记的位置，进而测算出光掩模上对准标记的X-Y方向相对于移动台的X-Y标记方向的角度，将光掩模的X-Y方向旋转到与移动台的X-Y标记方向平行。

2.如权利要求1所述的定位装置，其特征在于，所述气浮X-Y两坐标平面移动台包括：

第一移动台，包括两个并排设置的气浮导轨和滑动部件，导轨固定在基座上；

第二移动台，包括一个气浮导轨和滑动部件，导轨固定在第一移动台的两个滑动部件上；

第一直线驱动电机，设置在第一移动台的两个气浮导轨之间，该驱动电机的动子与第二移动台的导轨底部连接，用于驱动第一移动台的滑动部件和第二移动台的导轨，使其在第一方向上相对于第一移动台的导轨和基座移动；

第二直线驱动电机，设置在第二移动台的气浮导轨和滑动部件之间，该驱动电机的动子与第二移动台的滑动部件底部连接，用于驱动第二移动台的滑动部件，使其在垂直于第一方向的第二方向上相对于第一移动台移动。

3.如权利要求1或2所述的定位装置，其特征在于，光掩模放置台的旋转台与移动台之间设置旋转台托盘，该托盘固定在移动台上，旋转台相对于该托盘可转动地与其连接。

4.如权利要求1～3任一所述的定位装置，其特征在于，旋转驱动电机设置在旋转台托盘或移动台中，旋转台与旋转驱动电机的动子连接，旋转台托盘或移动台与旋转驱动电机的定子连接。

5.如权利要求4所述的定位装置，其特征在于，旋转台与旋转台托盘或移动台通过旋转轴部件连接，旋转轴部件的一端与旋转台连接，另一端与旋转驱动电机的动子连接，旋转驱动电机的定子与旋转台托盘或移动台连接。

6.如权利要求1～5任一所述的定位装置，其特征在于，移动台中，或者移动台和旋转台托盘和/或旋转轴部件中，具有真空通道与旋转台的真空孔相连通。所述的旋转轴部件具有内部真空通道，其顶部与光掩模放置台连接，其底部与旋转电机的动子连接，光掩模放置台的真空通道与旋转轴部件的真空通道相连通。

7.如权利要求6所述的定位装置，其特征在于，所述的真空孔是三个。

8.一种光掩模缺陷修复装置，其特征在于，包括权利要求1～7中任一所述的定位装置。

9.一种光掩模缺陷的定位方法，包括如下步骤：

a.将光掩模版置于光掩模放置台上，抽真空，使光掩模版牢固吸附在光掩模放置台上，以使光掩模相对放置台的位置固定下来；

b.利用光掩模激光对准装置，对光掩模进行粗对准和细对准，利用激光扫描光掩模版上的粗细对准标记的X-Y方向的边缘以及光掩模放置台上的X-Y方向标记，测量出这些粗细对准标记的位置，进而测算出光掩模上对准标记的X-Y方向相对于移动台的X-Y标记方向的角度，将光掩模的X-Y方向旋转到与移动台的X-Y标记方向平行，然后定义光掩模版上(0，0)坐标的位置；

c.以光掩模上所述位置为(0，0)点建立X-Y坐标系统，与移动台的X-Y坐标系统有一一对应的相对位移关系；

d.根据检验出的缺陷位置，在光掩模制作设计的图形数据库中找到与缺陷位置相对应的精确坐标；将所述缺陷坐标输入到所述移动台坐标系统；

e.利用激光定位装置，控制移动台的精确的位置移动，将光掩模的缺陷位置精确地移动到修复腔体正下方。