[发明专利]测量接触孔的方法

权利要求书

1.一种测量接触孔的方法，所述接触孔的测量参数包括：接触孔的上口特征尺寸、接触孔的底部特征尺寸、接触孔高度、接触孔的侧壁角以及接触孔是否刻蚀完全；

该方法为刻蚀形成接触孔之后，采用光学测量方法在线测量接触孔，同时得到所述各个参数。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述接触孔是否刻蚀完全，通过测量接触孔底部的金属硅化物层刻蚀尺寸得到，当接触孔刻蚀完全时，所述金属硅化物层的刻蚀尺寸达到预定尺寸；当接触孔刻蚀不完全时，继续刻蚀接触孔以达到对金属硅化物层的预定刻蚀尺寸。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述采用光学测量方法在线测量接触孔，同时得到所述各个参数的方法为：

利用光学测量仪，将光学测量仪的光源照射到接触孔上，获得所述接触孔的光谱，所述光源照射的接触孔为按照预定规则排列的接触孔矩阵，接触孔彼此相同，但接触孔每一参数允许在容许范围内变化；

将所述光谱输入数据库，经过拟合从该数据库得到与接触孔各参数对应的拟合光谱曲线图；

针对变化范围内的每一个接触孔，输入与该接触孔相关的各个参数值，建立与该接触孔对应的数据模型，将该建模得到的数据模型输入光谱分析系统，得到该数据模型接触孔的各个参数对应的各个理论光谱曲线图；

将每个参数对应的拟合光谱曲线与上述得到的该参数对应的所有理论光谱曲线进行比对，将其中符合拟合光谱曲线的理论光谱曲线，其所对应的建模时输入的该参数值作为光学测量接触孔该参数的确定值，从而同时得到接触孔的其他各个参数值。

4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述采用光学测量方法在线测量接触孔，同时得到所述各个参数的方法为：

针对变化范围内的每一个接触孔，输入与该接触孔相关的各个参数值，建立与该接触孔对应的数据模型，将该建模得到的数据模型输入光谱分析系统，得到该数据模型接触孔的各个参数对应的各个理论光谱曲线图；

利用光学测量仪，将光学测量仪的光源照射到接触孔上，获得所述接触孔的光谱，所述光源照射的接触孔为按照预定规则排列的接触孔矩阵，接触孔彼此相同，但接触孔每一参数允许在容许范围内变化；

将所述光谱输入数据库，经过拟合从该数据库得到与接触孔各参数对应的拟合光谱曲线图；

将每个参数对应的拟合光谱曲线与上述得到的该参数对应的所有理论光谱曲线进行比对，将其中符合拟合光谱曲线的理论光谱曲线，其所对应的建模时输入的该参数值作为光学测量接触孔该参数的确定值，从而同时得到接触孔的其他各个参数值。

5.如权利要求3或4所述的方法，其特征在于，所述测量在测量反应腔内进行。