[发明专利]金属蒸镀坩埚无效
| 申请号： | 200910199178.2 | 申请日： | 2009-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN102071398A | 公开（公告）日： | 2011-05-25 |
| 发明（设计）人： | 李诺;刘畅 | 申请（专利权）人： | 上海广电电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/14 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 吴宝根 |
| 地址： | 201204 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 金属 坩埚 | ||
【权利要求书】：
1.一种金属蒸镀用坩埚，包括一端开口的坩埚容器，其特征在于：所述坩埚容器的开口边上设有一个环状水平平台，环状水平平台上开有至少一条环状限流凹槽。
2.根据权利要求1所述的金属蒸镀用坩埚，其特征在于：所述环状限流凹槽与坩埚容器和环状水平平台同心，且位于水平平台外沿。
3.根据权利要求1所述的金属蒸镀用坩埚，其特征在于：所述环状水平平台的宽度至少为加热丝横截面宽度的三倍。
4.根据权利要求1所述的金属蒸镀用坩埚，其特征在于：所述环状限流凹槽的深度为环状水平平台厚度的一半，其宽度小于加热丝的直径。
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