[发明专利]光罩清洗方法有效
| 申请号： | 200910199450.7 | 申请日： | 2009-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN102078869A | 公开（公告）日： | 2011-06-01 |
| 发明（设计）人： | 陈建山;李德建 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/04 | 分类号： | B08B7/04;B08B7/00;B08B3/08;B08B3/04 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洗 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光罩清洗方法，其特征在于，包括如下步骤：
在臭氧清洗设备中进行下述步骤：采用短波长的紫外光照射所述光罩；采用含臭氧的水溶液清洗所述光罩；去离子水清洗所述光罩；
然后，在SPM清洗设备中进行下述步骤：去离子水清洗所述光罩；采用SC1溶液清洗所述光罩；去离子水清洗所述光罩；烘干。
2.根据权利要求1所述的光罩清洗方法，其特征在于，所述短波长的紫外光的波长为172nm。
3.根据权利要求1所述的光罩清洗方法，其特征在于，所述光罩为193nm条件下进行曝光的光罩。
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