[发明专利]一种化学机械抛光浆料及其应用无效
申请号: | 200910200319.8 | 申请日: | 2009-12-11 |
公开(公告)号: | CN102093818A | 公开(公告)日: | 2011-06-15 |
发明(设计)人: | 荆建芬;蔡鑫元 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;C23F3/06 |
代理公司: | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 机械抛光 浆料 及其 应用 | ||
1.一种化学机械抛光浆料,其包含:至少一种具有颜料亲和基团的星型结构的聚合物表面活性剂、研磨颗粒、络合剂、腐蚀抑制剂和氧化剂。
2.如权利要求1所述的抛光浆料,其特征在于,所述的颜料亲和基团为选自羟基、氨基和羧基中的一种或多种。
3.如权利要求1所述的抛光浆料,其特征在于,形成所述的含颜料亲和基团的星型聚合物的聚合单体包括下列中的一种或多种:丙烯酸类单体、丙烯酸酯类单体、丙烯酰胺类单体和环氧乙烷。
4.如权利要求3所述的抛光浆料,其特征在于,所述丙烯酸类单体为丙烯酸和/或甲基丙烯酸;所述的丙烯酸酯类单体为选自丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸羟乙酯和甲基丙烯酸羟乙酯中的一种或多种;所述的丙烯酰胺类单体为丙烯酰胺和/或甲基丙烯酰胺。
5.如权利要求3所述的抛光浆料,其特征在于,形成所述含颜料亲和基团的星型聚合物的单体还包括其他乙烯基类单体。
6.如权利要求5所述的抛光浆料,其特征在于,所述其他乙烯基类单体为选自乙烯、丙烯、苯乙烯和对甲基苯乙烯中的一种或多种。
7.如权利要求1或2所述的抛光浆料,其特征在于,所述含颜料亲和基团的星型聚合物为选自聚丙烯酸星型均聚物,苯乙烯与丙烯酸羟乙酯的二元星型共聚物,对甲基苯乙烯与环氧乙烷的二元星型共聚物,苯乙烯与环氧乙烷的二元星型共聚物,甲基丙烯酸甲酯与环氧乙烷的二元星型共聚物,丙烯酸甲酯与丙烯酸羟乙酯的二元星型共聚物,丙烯酸与丙烯酸羟乙酯的二元星型共聚物,以及丙烯酸、丙烯酸丁酯和丙烯酰胺的三元星型共聚物中的一种或多种。
8.如权利要求1所述的抛光浆料,其特征在于,所述含颜料亲和基团的星型聚合物的数均分子量为800-50000。
9.如权利要求1所述的抛光浆料,其特征在于,所述含颜料亲和基团的星型聚合物的含量为质量百分比0.0001~5%。
10.如权利要求1所述的抛光浆料,其特征在于,所述研磨颗粒为选自二氧化硅、三氧化二铝、掺杂铝的二氧化硅、覆盖铝的二氧化硅、二氧化铈、二氧化钛和高分子研磨颗粒中的一种或多种。
11.如权利要求10所述的抛光浆料,其特征在于,所述的研磨颗粒的含量为质量百分比0.1~20%,所述的研磨颗粒的粒径为20~150nm。
12.如权利要求1所述的抛光浆料,其特征在于,所述络合剂为选自氨基酸及其盐、有机羧酸及其盐、有机膦酸及其盐。
13.如权利要求12所述的抛光浆料,其特征在于,所述氨基酸具体为选自甘氨酸、丙氨酸、缬氨酸、亮氨酸、脯氨酸、苯丙氨酸、酪氨酸、色氨酸、赖氨酸、精氨酸、组氨酸、丝氨酸、天冬氨酸、谷氨酸、天冬酰胺、谷氨酰胺、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、环己烷四乙酸、乙二胺二琥珀酸、二乙烯三胺五乙酸和三乙烯四胺六乙酸中的一种或多种;所述的有机羧酸为选自醋酸、草酸、柠檬酸、酒石酸、马来酸、丙二酸、丁二酸、苹果酸、乳酸、没食子酸和磺基水杨酸中的一种或多种;所述的有机膦酸为2-膦酸丁烷-1,2,4-三羧酸、氨基三甲叉膦酸、羟基乙叉二膦酸、乙二胺四甲叉膦酸、二乙烯三胺五甲叉膦酸、多元醇膦酸酯、2-羟基膦酸基乙酸、乙二胺四甲叉膦酸和多氨基多醚基甲叉膦酸中的一种或多种。
14.如权利要求1所述的抛光浆料,其特征在于,所述络合剂的含量为质量百分比0.01~10%。
15.如权利要求1所述的抛光浆料,其特征在于,所述腐蚀抑制剂为氮唑、咪唑、噻唑、吡啶和嘧啶类化合物中的一种或多种。
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