[发明专利]一种适用于化学气体环境的露点仪无效

专利信息
申请号: 200910201342.9 申请日: 2009-12-17
公开(公告)号: CN102103098A 公开(公告)日: 2011-06-22
发明(设计)人: 王志兰;吴伟 申请(专利权)人: 上海莫克电子技术有限公司
主分类号: G01N25/66 分类号: G01N25/66
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201203 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 适用于 化学 气体 环境 露点
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种露点仪。

背景技术

化学气体中,往往会有较多的颗粒状物质,以及容易附着的化学物质。及时在通常的使用环境下,随着使用时间的增长,气体中的灰尘、化学物质等污染颗粒也会在露点仪的探头沉积,从而导致露点仪的测量结果产生较大的误差。要解决这些问题,一方面需要增强仪器的密封性能;另一方面,要求仪器具备化学物质清除功能,能够处理已经沉积在探头上的污染物质。

发明内容

本发明的目的就是解决上述问题,解决探头受污染的问题,使得露点仪即使在颗粒较多的化学气体环境下也能正常的工作。为实现该目的,本发明提供一种适用于化学气体环境的露点仪,包括探头和手持表,其特征在于,具有探头加温装置;且仪表外壳达到IP65防护标准。

优选的,所述探头加温装置,其温度可调,至少包括加热去露档、去油污档和高温去杂档三个调节档。

优选的,所述手持表还包括用户操作界面,提供探头加温装置调节档选择菜单。

优选的,所述加热去露档的温度以探头所处环境温度为基准,加热11℃至15℃。

优选的,所述去油污档的温度在180℃至200摄氏度之间。

优选的,所述高温去杂档的温度在220℃至300℃之间。

本发明的优点在于,采用了严格的外壳防护技术,防止灰尘等颗粒物质进入仪器;另一方面,对于沉积在探头上的污染物质,通过迅速加温至较高温度,使得油污以及其他杂质在高位下气化蒸发,达到清洁探头、去除污染的效果。

附图说明

图1展示了本发明的结构图。

图2展示了本发明的工作流程图。

具体实施方式

实施例一

请参见图1和图2。图1是本发明的结构图。本发明中的露点仪包括探头与手持表两部分,其仪表外壳达到IP65标准,可以有效的防止溅射、灰尘进入仪器内部。探头部分具有一个探头加温装置,其温度可调,至少包括加热去露档、去油污档和高温去杂档三个调节档,用户可以通过手持表的用户操作界面选择所需的调节档进行相应的操作。其中加热去露档的温度以探头所处环境温度为基准,加热11℃至15℃;去油污档的温度在180℃至200摄氏度之间;高温去杂档的温度在220℃至300℃之间。

图2是本发明的流程图。用户通过用户操作界面选择调节档,如果露点仪的环境温度变化剧烈,则需要进行去露,调至加热去露档进行去露工作;如探头积累了油污,可选用去油污档,除去油污;如探头沉积了较多的各类化学杂质,则可以选用高温去杂档,利用高温使其汽化后,实现探头的清洁。

本发明一方面在最大程度上避免了灰尘进入仪器内部,另一方面,利用探头加热装置,可以根据实际需要有效的清除探头的尘土、颗粒等影响探测精度的物质。使得露点仪十分适合用于各类化学物气体中。

本发明提供一种适用于化学气体环境的露点仪,以上实施例仅用以说明,而非限制本发明的技术方案。本领域的普通技术人员应当理解:对本发明进行修改或者等同替换,而不脱离本发明的精神和范围的任何修改或局部替换,均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。

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