[发明专利]一种化学机械抛光液无效
申请号: | 200910201383.8 | 申请日: | 2009-12-18 |
公开(公告)号: | CN102101979A | 公开(公告)日: | 2011-06-22 |
发明(设计)人: | 荆建芬 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;H01L21/306 |
代理公司: | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 机械抛光 | ||
1.一种抛光硅的化学机械抛光液,包含:水、研磨颗粒、至少一种硅的增速剂和至少一种硅的抑制剂。
2.如权利要求1所述抛光液,其特征在于,所述硅的增速剂为含有胍基团的化合物。
3.如权利要求2所述抛光液,其特征在于,所述的含有胍基的化合物为单胍、双胍、聚胍类化合物及其酸加成盐。
4.如权利要求3所述抛光液,其特征在于,所述的单胍类化合物及其酸加成盐为选自胍、碳酸胍、乙酸胍、磷酸氢二胍、盐酸胍、硝酸胍、硫酸胍、氨基胍、氨基胍碳酸氢盐、氨基胍磺酸盐、氨基胍硝酸盐和氨基胍盐酸中的一种或多种。
5.如权利要求3所述抛光液,其特征在于,所述的双胍类化合物或其酸加成盐为双胍、二甲双胍、苯乙双胍、1,1’-己基双[5-(对氯苯基)双胍、吗啉胍、上述化合物的酸加成盐或6-脒基-2-萘基4胍基苯甲酸酯甲基磺酸盐;所述的酸为盐酸、磷酸、硝酸、醋酸、葡萄糖酸和磺酸中的一种或多种。
6.如权利要求3所述抛光液,其特征在于,所述的聚胍或其酸加成盐为聚六亚甲基胍、聚六亚甲基双胍、聚(六亚甲基双氰基胍-六亚甲基二胺)或其酸加成盐;所述的酸为盐酸、磷酸、硝酸、醋酸、葡萄糖酸或磺酸;所述的聚胍类化合物或其酸加成盐的聚合度为2~100。
7.如权利要求1所述抛光液,其特征在于,所述硅的增速剂在溶液中的含量为重量百分比0.0001~10wt%.
8.如权利要求1所述抛光液,其特征在于,所述硅的抑制剂为多元醇型非离子表面活性剂。
9.如权利要求8所述抛光液,其特征在于:所述的多元醇型非离子表面活性剂为多元醇与脂肪酸经酯化反应生成的酯类表面活性剂和/或聚乙二醇表面活性剂。
10.如权利要求9所述抛光液,其特征在于:所述的酯类表面活性剂为多元醇脂肪酸酯R1OmHm-n(OCR2)n、聚乙二醇脂肪酸酯R2COO(CH2CH2O)pH或R2COO(CH2CH2O)pOCR2、聚氧乙烯多元醇脂肪酸酯R1OmHm-n(CH2CH2O)p(OCR2)n,其中,R1(OH)m为2≤m≤8的多元醇,4≤p≤120,R2COOH为碳原子数为8~22的脂肪酸,n=1~4且m≥n。
11.如权利要求9所述抛光液,其特征在于:所述的多元醇为乙二醇、一缩二乙二醇、二缩三乙二醇、丙二醇、甘油、聚甘油、聚氧乙烯甘油、季戊四醇、失水木糖醇、聚氧乙烯失水木糖醇、山梨醇、聚氧乙烯山梨醇、失水山梨醇、聚氧乙烯失水山梨醇、蔗糖或聚乙二醇。
12.如权利要求9所述的抛光液,其特征在于:所述的聚乙二醇表面活性剂为分子量为200~20000的聚乙二醇。
13.如权利要求1所述抛光液,其特征在于,所述的硅的抑制剂在溶液中的总含量为重量百分比0.0001wt.%~20wt.%。
14.如权利要求1所述抛光液,其特征在于,所述研磨颗粒为二氧化硅、三氧化二铝、掺杂铝的二氧化硅、覆盖铝的二氧化硅、二氧化铈、二氧化钛和高分子研磨颗粒中的一种或多种。
15.如权利要求1所述抛光液,其特征在于,所述的研磨颗粒的含量为重量百分比0.1wt.%~30wt.%。
16.如权利要求1所述抛光液,其特征在于:所述的研磨颗粒的粒径为20~150nm。
17.如权利要求16所述抛光液,其特征在于:所述的研磨颗粒的粒径为30~120nm。
18.如权利要求1所述抛光液,其特征在于,所述抛光液用于涉及单晶硅和多晶硅的抛光。
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