[发明专利]衬底台、光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种用于浸没式光刻设备的台，所述台包括：用于将浸没流体提供 到所述台的顶部表面上的开口；以及控制器，其配置成控制通过所述开口 提供浸没流体的操作，其特征在于，所述控制器配置成控制通过所述开口 将浸没流体提供到所述台的顶部表面的操作。

2.根据权利要求1所述的台，其中所述开口在所述台的顶部表面中。

3.根据权利要求1所述的台，其中所述开口邻近所述台的外部边缘。

4.根据权利要求3所述的台，其中位于所述开口的5mm内的所述边 缘使得浸没流体具有与其成小于30°的前进接触角。

5.根据权利要求1所述的台，其中所述开口邻近所述台的衬底支撑 结构。

6.根据前述权利要求中任一项所述的台，其中所述开口邻近位于所述 台上的衬底支撑结构的外部边缘。

7.根据权利要求1-5中任一项所述的台，其中所述台的边缘包括具 有至少5mm半径的弯曲边缘。

8.根据权利要求1-5中任一项所述的台，还包括围绕所述台的边缘的 排液槽，所述排液槽配置成收集从所述边缘流出的浸没流体。

9.根据权利要求1-5中任一项所述的台，其中所述开口由构件形成， 所述构件围绕所述台的衬底支撑结构，所述构件与所述台的一部分热隔 离。

10.根据权利要求9所述的台，其中所述开口由所述构件的边缘形成。

11.根据权利要求9所述的台，其中所述开口形成在所述构件中。

12.根据权利要求1-5中任一项所述的台，其中所述开口位于所述台 内的毛细通路的端部处。

13.根据权利要求12所述的台，其中所述浸没流体与所述毛细通路 的表面具有小于30°的前进接触角。

14.根据权利要求1-5中任一项所述的台，其中所述开口与所述台内 的室流体连通。

15.根据权利要求14所述的台，其中所述室包括内部结构，所述内 部结构配置成抑制通过所述室的浸没流体内的压力波动。

16.根据权利要求14所述的台，其中所述室配置成具有比所述毛细 通路低的流阻。

17.根据权利要求14所述的台，其中所述结构包括多孔材料和/或毛 细束系统。

18.根据权利要求1-5中任一项所述的台，其中所述开口是环形的。

19.根据权利要求1-5中任一项所述的台，其中所述台适用于具有全 浸湿液体供给系统的浸没式光刻投影设备。

20.一种浸没式光刻投影设备，包括权利要求1-5中任一个所述的台。

21.根据权利要求20所述的浸没式光刻投影设备，其中所述浸没式 光刻投影设备还包括液体处理系统，所述液体处理系统用于将浸没液体提 供到投影系统的最终元件和衬底和/或所述台之间的空间。

22.根据权利要求21所述的浸没式光刻投影设备，其中所述液体处 理系统相对于所述台是可移动的。

23.一种器件制造方法，包括步骤：

将物体定位在台上；和

通过在所述台中的开口提供浸没流体，其特征在于，通过所述开口提 供的浸没流体被提供到所述台的顶部表面。