[发明专利]从包括聚噻吩和含醚的聚合物的分散体形成的导电膜有效
申请号: | 200910204487.4 | 申请日: | 2009-09-29 |
公开(公告)号: | CN101712808A | 公开(公告)日: | 2010-05-26 |
发明(设计)人: | 郑世莺;S·扎恩;G·C·汉-阿德贝孔 | 申请(专利权)人: | 气体产品与化学公司 |
主分类号: | C08L101/12 | 分类号: | C08L101/12;C08L65/00;C08L81/06;C08L71/10;H01L51/50;H01L51/42;H01L29/861 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 段晓玲;韦欣华 |
地址: | 美国宾夕*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 噻吩 聚合物 散体 形成 导电 | ||
1.从水性分散体形成的经退火的导电性膜,所述水性分散体包括 水,至少一种导电聚合物,至少一种含醚的聚合物和至少一种胶体形成 用聚合物酸,其中所述导电聚合物包括选自聚苯胺,聚噻吩,聚吡咯, 聚乙炔,聚噻吩并噻吩/聚苯乙烯磺酸,聚二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸, 聚苯胺-聚合物酸-胶体,聚(3,4-亚乙基二氧基噻吩),聚(3,4-亚乙基二 氧基噻吩)-聚合酸-胶体,含硒的聚合物和它们的混合物中至少一种, 和所述含醚的聚合物包括选自磺化聚(醚酮),磺化聚(亚芳基氧化物), 磺化聚砜,磺化聚醚醚酮,磺化聚(羟苯基酞嗪酮醚酮),磺化聚(亚苯 基氧化物),磺化氟化聚砜和它们的混合物中的至少一种,其中分散体 用至少一种碱性化合物处理。
2.权利要求1的经退火的导电性膜,其中该导电聚合物包括聚(噻 吩并[3,4-b]噻吩)。
3.权利要求1的经退火的导电性膜,其中分散体包括胶体形成用 的聚合物酸,后者包括至少一种氟化的磺酸聚合物。
4.权利要求1的经退火的导电性膜,其中分散体用碱性离子交换 树脂处理。
5.权利要求4的经退火的导电性膜,其中碱性化合物包括选自氢 氧化钠,氢氧化铵,四甲基铵氢氧化物,氢氧化钙,氢氧化铯,和它 们的结合物中的至少一种。
6.权利要求1的经退火的导电性膜,其中该导电聚合物包括选自 聚噻吩并噻吩/聚苯乙烯磺酸和聚(3,4-亚乙基二氧基噻吩)-聚合酸-胶体 的至少一种。
7.权利要求1的经退火的导电性膜,其中含醚的聚合物包括选自 磺化聚(醚酮),磺化聚(亚芳基氧化物),磺化聚砜,和它们的混合物中 的至少一种。
8.权利要求1的经退火的导电性膜,其中含醚的聚合物包括选自 磺化聚醚醚酮,磺化聚(羟苯基酞嗪酮醚酮),磺化聚(亚苯基氧化物), 磺化聚砜,磺化氟化聚砜和它们的混合物中的至少一种。
9.权利要求1的经退火的导电性膜,其中分散体进一步包括至少 一种硫酸盐。
10.权利要求1的经退火的导电性膜,其中分散体进一步包括至少一种 胶体形成用聚合物酸和至少一种非氟化聚合物酸。
11.电子设备,它包括:
权利要求1的经退火的导电性膜。
12.权利要求11的设备,进一步包括至少一种聚噻吩和与聚噻吩 层接触的至少一种导电性电极。
13.权利要求11的设备,其中设备包括有机电子设备。
14.权利要求13的设备,其中设备包括选自有机发光二极管,有 机光电子设备,有机光致电压设备,二极管,和晶体管中的至少一种。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于气体产品与化学公司,未经气体产品与化学公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910204487.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种金属钴酞菁的制法
- 下一篇:一种桂哌齐特的合成方法