[发明专利]从包括聚噻吩和含醚的聚合物的分散体形成的导电膜有效

专利信息
申请号: 200910204487.4 申请日: 2009-09-29
公开(公告)号: CN101712808A 公开(公告)日: 2010-05-26
发明(设计)人: 郑世莺;S·扎恩;G·C·汉-阿德贝孔 申请(专利权)人: 气体产品与化学公司
主分类号: C08L101/12 分类号: C08L101/12;C08L65/00;C08L81/06;C08L71/10;H01L51/50;H01L51/42;H01L29/861
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 段晓玲;韦欣华
地址: 美国宾夕*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 包括 噻吩 聚合物 散体 形成 导电
【权利要求书】:

1.从水性分散体形成的经退火的导电性膜,所述水性分散体包括 水,至少一种导电聚合物,至少一种含醚的聚合物和至少一种胶体形成 用聚合物酸,其中所述导电聚合物包括选自聚苯胺,聚噻吩,聚吡咯, 聚乙炔,聚噻吩并噻吩/聚苯乙烯磺酸,聚二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸, 聚苯胺-聚合物酸-胶体,聚(3,4-亚乙基二氧基噻吩),聚(3,4-亚乙基二 氧基噻吩)-聚合酸-胶体,含硒的聚合物和它们的混合物中至少一种, 和所述含醚的聚合物包括选自磺化聚(醚酮),磺化聚(亚芳基氧化物), 磺化聚砜,磺化聚醚醚酮,磺化聚(羟苯基酞嗪酮醚酮),磺化聚(亚苯 基氧化物),磺化氟化聚砜和它们的混合物中的至少一种,其中分散体 用至少一种碱性化合物处理。

2.权利要求1的经退火的导电性膜,其中该导电聚合物包括聚(噻 吩并[3,4-b]噻吩)。

3.权利要求1的经退火的导电性膜,其中分散体包括胶体形成用 的聚合物酸,后者包括至少一种氟化的磺酸聚合物。

4.权利要求1的经退火的导电性膜,其中分散体用碱性离子交换 树脂处理。

5.权利要求4的经退火的导电性膜,其中碱性化合物包括选自氢 氧化钠,氢氧化铵,四甲基铵氢氧化物,氢氧化钙,氢氧化铯,和它 们的结合物中的至少一种。

6.权利要求1的经退火的导电性膜,其中该导电聚合物包括选自 聚噻吩并噻吩/聚苯乙烯磺酸和聚(3,4-亚乙基二氧基噻吩)-聚合酸-胶体 的至少一种。

7.权利要求1的经退火的导电性膜,其中含醚的聚合物包括选自 磺化聚(醚酮),磺化聚(亚芳基氧化物),磺化聚砜,和它们的混合物中 的至少一种。

8.权利要求1的经退火的导电性膜,其中含醚的聚合物包括选自 磺化聚醚醚酮,磺化聚(羟苯基酞嗪酮醚酮),磺化聚(亚苯基氧化物), 磺化聚砜,磺化氟化聚砜和它们的混合物中的至少一种。

9.权利要求1的经退火的导电性膜,其中分散体进一步包括至少 一种硫酸盐。

10.权利要求1的经退火的导电性膜,其中分散体进一步包括至少一种 胶体形成用聚合物酸和至少一种非氟化聚合物酸。

11.电子设备,它包括:

权利要求1的经退火的导电性膜。

12.权利要求11的设备,进一步包括至少一种聚噻吩和与聚噻吩 层接触的至少一种导电性电极。

13.权利要求11的设备,其中设备包括有机电子设备。

14.权利要求13的设备,其中设备包括选自有机发光二极管,有 机光电子设备,有机光致电压设备,二极管,和晶体管中的至少一种。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于气体产品与化学公司,未经气体产品与化学公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910204487.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top