[发明专利]显影装置

说明书

本申请是申请日为2007年6月25日，申请号为200710112619.1， 发明名称为“显影装置”的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种显影装置，其用于采用例如电子照相方法或静电记 录方法的成像装置。

背景技术

对于采用作为现有显影剂的单组份调色剂的显影方法而言，接触显 影方法和非接触显影方法已经广泛地使用。具体而言，提出方案如下： (1)采用作为具有柔性层的现有显影剂承载构件的显影辊的接触显影 方法，(2)利用非磁性调色剂的非接触显影方法，采用具有金属套筒 或柔性层的显影辊作为显影剂承载构件，(3)利用非磁性调色剂的非 接触显影方法，采用金属套筒作为显影承载构件，等等。在这些显影方 法中，在被构造成调节显影剂的量以使单组份调色剂在显影剂承载构件 上形成薄层的显影剂量调节构件方面上提出了几个措施。

(1)采用具有柔性层的显影辊的接触显影方法(图10)

公知一种方法，其中通过在作为柔性辊且具有电介质层的显影辊3 上承载非磁性显影剂进行显影，以及用感光鼓1进行这样的接触。通过 与显影辊3接触的供给辊5将显影剂供给显影辊3。供给辊5包括以下 功能：将显影剂从显影剂容器T中传送出来，将显影剂粘附在显影辊3 上，以及临时除去留在显影辊3上的显影剂。

由于粘附在显影辊3上的显影剂的层调节和摩擦电荷而施加电荷是 通过显影剂量调节构件4与显影辊3接触而进行的。在显影剂量调节构 件4-c中，建议采用叶片状金属薄板，其在纵向上沿着一侧被支承， 并且其端面部分的下侧与显影辊3接触。涂覆在显影辊3上的显影剂使 在感光鼓1上形成的静电潜像显影，并且在显影辊3上施加偏压。对于 (1)的方法，从日本公开专利No.2001-922201中得到。

(2)利用非磁性调色剂且采用包括金属套筒或柔性层的显影辊 的非接触显影方法(图11)

公知一种方法，其中显影剂由在其表面上具有圆柱形金属或传导树 脂层的显影套筒3a上承载和保持，并且显影是通过没有与相邻的感光 鼓1的表面接触而进行的。通过供给辊5将非磁性显影剂供给显影套筒 3a，如(1)接触显影方法那样。

由于粘附在显影辊3上的显影剂的层调节和摩擦电荷而施加电荷是 通过使显影剂量调节构件4与显影套筒3a接触而进行的。在采用包括 柔性层的显影辊的情况下，建议使用在纵向上沿着一个侧面支承的叶片 状金属薄板，其端面部分的下侧与显影辊接触，如(1)接触型显影方 法那样。另外，在采用具有高强度的显影套筒3a的情况下，难以采用 作为显影剂量调节构件4-c的金属板与显影套筒3a接触。因此，建议 采用其上涂覆具有一定柔性特性的柔性层的金属薄板等等。

不仅直流偏压而且交流偏压被施加在显影套筒3a和感光鼓1之间。 具有显影剂量调节构件4-c的显影套筒3a上的显影剂通过该交流偏压 飞起并且在感光鼓1和非接触型显影套筒3a之间来回运动。另外，形 成在显影辊1上的静电潜像由施加在显影套筒3a上的直流偏压的电压 显影。

(3)使用磁性调色剂且采用金属套筒的非接触方法(图12)

应用单组份磁性调色剂的非接触方法已经是公知的。该方法与(2) 使用非磁性调色剂的非接触显影方法在以下方面相同：采用圆柱性显影 套筒3a，通过使显影剂量调节构件4-c与显影套筒3a接触进行由于显影 剂的层调节和摩擦电荷而施加电荷。然而，通过非接触显影方法，通过 在显影套筒3a中设置磁体7通过磁力进行向显影套筒3a供给显影剂。 对于方法(3)，已经从日本专利公开号No.55-18656中知道。

对于(2)采用非磁性调色剂的非接触显影方法，直流偏压和交流 偏压被施加在显影套筒3a和感光鼓1之间，通过非接触进行显影。这 时，即使在显影套筒3a上具有充电性能不足的大量调色剂，通过将磁 极布置在显影部分附近防止调色剂被不必要地显影。因此，对于在显影 套筒3a上的显影剂的充电性能，不要求与(2)采用非磁性调色剂的非 接触显影方法差不多的严格控制。对于显影剂量调节构件4-c，通过考 虑显影套筒3a的接触稳定性，建议采用橡胶板，该橡胶板具有与(1) 非磁性调色剂的非接触显影方法相比低的接触压力。

至此，关于调色剂量调节构件，板状调色剂量调节构件是已知的， 其沿着在纵向上的一侧支承薄板柔性构件，并且使其面对部分的底侧与 显影辊接触。