[发明专利]半导体器件有效

专利信息
申请号: 200910206364.4 申请日: 2004-12-13
公开(公告)号: CN101677099A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 高桥徹雄 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L29/739;H01L29/06;H01L29/40
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 郭 放
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 半导体器件
【权利要求书】:

1.一种半导体器件,该半导体器件具有形成在半导体衬底上的半 导体元件和设置在上述半导体元件周围的外围构造,其特征在于,上 述外围构造具备:

形成在该外围构造的外围部分上且与上述半导体衬底电连接的 第1电极;

形成在上述半导体元件的形成区与上述第1电极之间的上述半导 体衬底上的绝缘膜;

形成在上述绝缘膜上且连接于上述第1电极与配置在上述半导体 元件中的上述半导体衬底上最外侧的第2电极之间的多级反向连接二 极管;和

在上述绝缘膜下方的上述半导体衬底中形成为包围上述半导体 元件的保护环,

其中,在上述多级反向连接二极管中,以上述多级反向连接二极 管中的pn结不位于上述保护环的上方的方式,在一个上述保护环的 上方仅配置单一导电类型的区域。

2.根据权利要求1所述的半导体器件,其特征在于:

在上述多级反向连接二极管中,上述保护环上方的上述单一导电 类型的区域的长度比上述保护环的宽度长,

上述单一导电类型的区域从上述保护环的上方朝着面向上述第1 电极的方向突出。

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