[发明专利]关于利用结构光的探头系统的系统方面

权利要求书

1.一种探头系统，包括成像器和检查光源，所述探头系统配置成：

在检查模式和测量模式中操作，其中所述检查光源在检查模式期 间被启用，并且在测量模式期间被禁用，以及其中在测量模式期间投 射结构光图案；

捕获至少一个测量模式图像，其中所述结构光图案被投射到物体 上；

在接近所述捕获至少一个测量模式图像的时间捕获至少一个检 查模式图像，其中所述至少一个检查模式图像包括投射到所述物体上 的来自所述检测光源的光；以及

利用来自所述至少一个测量模式图像的像素值以确定所述物体 的至少一个几何尺寸。

2.如权利要求1所述的探头系统，还配置成：

创建包括可视图像的单个图像文件，其中至少一个测量光标已被 破坏性地覆盖；以及

创建至少一个隐藏的记录，其中所述可视图像和至少一个测量光 标可使用图像观察器软件来观察，所述至少一个隐藏的记录至少包括 覆盖替代数据、测量光标位置、校准数据、结构光图像数据、相位数 据、点云数据及物体距离数据之一，使得定制程序能在所述可视图像 上执行几何测量。

3.如权利要求1所述的探头系统，还包括应用到源于所述成像器 的图像数据的增益函数、曝光函数、伽马校正函数及边缘增强函数中 的一个或多个函数；

其中所述探头系统配置成在检查模式与测量模式之间切换时自 动调整所述函数中至少一个函数的参数。

4.如权利要求1所述的探头系统，其中所述至少一个测量模式图 像包括包含相同结构光图案的多个测量模式图像；以及

其中来自包含所述相同结构光图案的所述多个测量模式图像的 不止一个图像的像素值用于确定所述物体的所述至少一个几何尺寸。

5.一种包括成像器的探头系统，所述探头系统配置成：

在检查模式和测量模式中操作，其中在检查模式期间投射散射照 明光，以及其中在测量模式期间投射结构光图案；

捕获至少一个测量模式图像，其中所述结构光图案被投射到物体 上；

在接近所述捕获至少一个测量模式图像的时间捕获至少一个检 查模式图像，其中所述至少一个检查模式图像包括投射到所述物体上 的来自所述检测光源的光；

利用来自所述至少一个测量模式图像的像素值以确定所述物体 的至少一个几何尺寸；以及

检测多个图像的两个或更多图像的捕获之间的探头与所述物体 之间的相对移动。

6.如权利要求5所述的探头系统，还包括：

计算指示所述多个图像的所述两个或更多图像的所述捕获之间 的所述探头与所述物体之间的所述相对移动的运动度量。

7.如权利要求5所述的探头系统，其中：

所述多个图像的所述两个或更多图像包括在所述至少一个测量 模式图像的捕获之前捕获的至少一个检查模式图像和在所述至少一 个测量模式图像的捕获之后捕获的至少一个检查模式图像，所述至少 一个检查模式图像包括投射到所述物体上的散射照明光。

8.如权利要求5所述的探头系统，其中所述至少一个测量模式图 像包括包含相同结构光图案的多个测量模式图像；以及

其中来自包含所述相同结构光图案的所述多个测量模式图像的 不止一个图像的像素值用于确定所述物体的所述至少一个几何尺寸。