[发明专利]曝光装置及元件制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，是通过第1液体将曝光用光照射于基板上以使基板曝光，其特征在于，具有：

投影光学系统，具有多个元件，其包含最接近像面的第1元件、以及次于该第1元件接近该像面的第2元件；

第1液浸机构，是将该第1液体供应至该第1元件与该基板之间；

第2液浸机构，是将第2液体供应至该第1元件与该第2元件之间；

该第1元件，具有配置成与该基板表面对向、使曝光用光通过的第1面；以及配置成与该第2元件对向、使曝光用光通过的第2面；

该第1液浸机构，具有使该曝光用光通过的开口、以及于该开口周围配置成与该基板表面对向的平坦液体接触面；

该第1液浸机构，具有用以将该第1液体供应至该第1元件与该基板之间的空间的供应口、以及从该基板上方回收该第1液体的回收口；

该第1液浸机构的该回收口配置成包围该液体接触面；

于该第1液浸机构的该回收口配置多孔构件；

该第2液浸机构，具有供应该第2液体的供应口与回收该第2液体的回收口；

使曝光用光通过在该第1元件的第1面与该基板间的该第1液体、以及在该第1元件的第2面与该第2元件间的该第2液体而照射于该基板上，以使该基板曝光。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，该多孔构件，具有与该基板的表面对向的斜面；

该多孔构件的该斜面与该基板之间的距离，大于该液体接触面与该基板之间的距离；

该多孔构件的该斜面，是形成为与该投影光学系统的光轴的距离越长而与该基板表面的间隔越大。

3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，该第1液体及该第2液体是纯水。

4.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：与该第1元件对向的该第2元件的面，小于该第1元件的第2面。

5.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：该第1元件与该第2元件，是以同一支撑构件支撑。

6.如权利要求5所述的曝光装置，其特征在于：该第1元件的该第1面与该第2面平行。

7.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于：于该投影光学系统的光轴上，该第1元件的第1面与该第2面的距离，大于该第1元件的第1面与基板的距离。

8.一种元件制造方法，其特征在于：是使用权利要求1～7中任一项所述的曝光装置。