[发明专利]光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂组合物，该光致抗蚀剂组合物含有：

a)碱溶性树脂；

b)光敏性化合物；

c)胶体状无机物；和

d)有机溶剂。

2.如权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中，

在碱溶性树脂和胶体状无机物的固体成分合计的总重量中，所述胶体状无机物为1重量％至50重量％，

相对于碱溶性树脂和胶体状无机物的固体成分合计100重量份，所述光敏性化合物的含量为5重量份至50重量份，

并且含有使固体成分含量达到10重量％至50重量％的量的所述有机溶剂。

3.如权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于，所述碱溶性树脂为使芳香醇和醛化合物反应而合成的高分子聚合物。

4.如权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于，所述胶体状无机物选自用有机硅烷进行表面处理后的无机物。

5.如权利要求4所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于，所述胶体状无机物为球状时具有1nm至100nm的直径，或者为纤维状时具有100nm至1000nm的大小。

6.如权利要求4所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于，所述有机硅烷以R¹_0-3Si(OR²)_1-4表示，其中，R¹在烷基、苯基、氟代烷基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、烯丙基、乙烯基和环氧基之中选择，R²选自低级烷基，OR²选自乙酸、肟基或烷氧基。

7.如权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于，构成胶体状无机物的无机物选自二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化锆、氧化锡、氧化锌、能与有机硅烷反应的无机物或用二氧化硅进行表面改性后的无机物中的至少一种无机物。

8.一种形成有图案的基板的制造方法，其为利用光致抗蚀剂的形成有图案的基板的制造方法，所述形成有图案的基板的制造方法包括如下步骤：在基板上涂布权利要求1至7任一项所述的光致抗蚀剂组合物。

9.一种电子器件，该电子器件包括利用权利要求8所述的方法来制造的形成有图案的基板。