[发明专利]等离子体处理装置有效
申请号: | 200910208723.X | 申请日: | 2009-11-05 |
公开(公告)号: | CN101740303A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 齐藤均;佐藤亮 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01J37/04;H05H1/46 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 | ||
1.一种等离子体处理装置,其使被供有处理气体的处理容器内产 生感应电场,将处理气体等离子体化并且对被载置于处理容器内的载 置台的被处理体进行等离子体处理,该等离子体处理装置的特征在于, 包括:
天线,其以隔着处理气氛与所述载置台相对的方式被设置于该处 理气氛之外,并且包括各个长度相等的、相互横向平行地排列而构成 的多个直线状的天线部件;
用于将高频电力供给至所述天线的高频电源部;
用于将所述天线的一端侧与所述高频电源部连接的电源侧电路;
用于将所述天线的另一端侧与接地点连接的接地侧电路;和
电位分布调整用的电容器,其被设置在所述电源侧电路和接地侧 电路的至少一方、并且用于对天线的电位分布进行调整,
从所述高频电源部通过各天线部件至接地点的各高频路径的阻抗 被设定为相互相等。
2.一种等离子体处理装置,其使供给有处理气体的处理容器内产 生感应电场,将处理气体等离子体化并且对被载置于处理容器内的载 置台的被处理体进行等离子体处理,该等离子体处理装置的特征在于, 包括:
天线,其以隔着处理气氛与所述载置台相对的方式被设置于该处 理气氛之外,并且包括各个长度相等的、相互横向平行地排列而构成 的多个直线状的天线部件;
用于将高频电力供给至所述天线的高频电源部;
用于将所述天线的一端侧与所述高频电源部连接的电源侧电路;
用于将所述天线的另一端侧与接地点连接的接地侧电路;
电位分布调整用的电容器,其被设置在所述电源侧电路和接地侧 电路的至少一方、并且用于对天线的电位分布进行调整;和
阻抗调整用的电容器,其被设置在所述电源侧电路和接地侧电路 的至少一方、并且用于对从所述高频电源部通过各天线部件到所述接 地点的高频路径的阻抗进行调整。
3.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置,其特征在于:
构成为天线部件彼此之间的间隔能够自由调整。
4.如权利要求3所述的等离子体处理装置,其特征在于:
所述天线部件的一端侧和另一端侧,与在天线部件的排列方向上 自由移动的移动部连接。
5.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置,其特征在于:
各个长度相等的多个直线状的天线部件形成相互相邻并且相互并 联连接而成的节段,该节段被配置有多个。
6.如权利要求5所述的等离子体处理装置,其特征在于:
所述节段被配置有偶数个,所述电源侧电路和接地侧电路,以形 成决定比赛的组合的线图状的方式配线为台阶状,使得在各节段之间 所述高频路径的阻抗相等,其中,所述决定比赛的组合的线图状是指, 将相互相邻的两个节段作为一个组合,并通过第一段电路将成为所述 组合的相互相邻的节段彼此之间连线,再通过第二电路将所述第一段 电路彼此之间连线。
7.如权利要求5所述的等离子体处理装置,其特征在于:
在任一个节段中所述天线部件的排列间隔都相等。
8.如权利要求5所述的等离子体处理装置,其特征在于:
所述天线包括:
多个天线部件相互以第一间隔排列而成的多个密部区域;和
设置在这些密部区域彼此之间的、多个天线部件相互以比第一间 隔更大的第二间隔排列而成的疏部区域。
9.如权利要求8所述的等离子体处理装置,其特征在于:
所述第一间隔为构成所述节段的天线部件的间隔,所述第二间隔 为相互相邻的节段彼此之间的间隔。
10.如权利要求5所述的等离子体处理装置,其特征在于:
构成为所述节段彼此之间的间隔能够自由调整。
11.如权利要求10所述的等离子体处理装置,其特征在于:
所述节段的一端侧和另一端侧,与在所述节段的排列方向上自由 移动的移动部连接。
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