[发明专利]一种气液两相流均匀分配装置

权利要求书

1.一种气液两相流均匀分配装置，其特征在于：主要包括分配主管，旋流器、整流器、临界喷嘴和分配支管，分配主管入口接收上游来的两相流体，旋流器和整流器布置在分配主管内部，整流器布置在旋流器下游，临界喷嘴布置在整流器下游的分配主管的管壁上，每个临界喷嘴后接一个分配支管，分配主管末端由盲板密封。

2.根据权利要求1所述的旋流器，其特征在于：由两个结构完全相同的半椭圆形旋流叶片组成，两旋流叶片在分配主管内交叉布置，两旋流叶片外缘保持与管内壁重合。

3.根据权利要求1所述的整流器，其特征在于：由直管段和扩展段组成，扩展段呈喇叭口型，扩展段出口处直径与分配主管内径相等。

4.根据权利要求1所述的临界喷嘴，其特征在于临界喷嘴喉部直径为所说分配主管内径1/20-1/10，临界喷嘴数目至少有两个，结构完全相同，安装位置和分配主管管壁垂直，且临界喷嘴均位于垂直于分配主管轴线的同一个截面上，临界喷嘴沿管周对称安装，也可不对称，临界喷嘴入口与分配装置主管的内表面齐平，可直接接触到分配主管内的气、液相介质。