[发明专利]标本处理仪及其清洗方法无效
申请号: | 200910209462.3 | 申请日: | 2009-10-30 |
公开(公告)号: | CN101726613A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | 芝田正治;福间大吾;长井孝明 | 申请(专利权)人: | 希森美康株式会社 |
主分类号: | G01N35/00 | 分类号: | G01N35/00;G01N1/28;G05B19/04;B08B3/00;G01N33/72;G01N15/02;G01N15/06;G01N15/10;G01N9/24;G01B11/24 |
代理公司: | 北京市安伦律师事务所 11339 | 代理人: | 刘良勇 |
地址: | 日本兵库县神户市*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 标本 处理 及其 清洗 方法 | ||
技术领域:
本发明涉及一种对血液、尿液等标本进行处理的标本处理仪及处理标本的标本处理装置的清洗方法。
背景技术:
一直以来,多项目血细胞分析仪、凝血检测仪、免疫分析仪、生化分析仪、尿液分析仪等各种标本分析仪已为人所知。
特开平1-161155号公报公开了一种自动分析仪,当到预定时间时,自动接通电源,自动将流动室恒温槽等的温度提升到一定温度,甚至自动进行直到水空白测定或试剂空白测定的操作。据此特开平1-161155号公报记述的结构,它具有向吸液管和试剂分装器注入洗涤剂的自动清洗装置,通电后自动进行清洗。
污垢或气泡等粘到自动分析仪上会影响标本测定,因此,必须在测定标本前除去污垢或气泡等。清洗自动分析仪,这些污垢或气泡等就可以控制在不影响测定结果的程度。然而,清洗以后时间一长,有时会有残留的微量细菌繁殖,或新的气泡产生,这种情况下有可能影响测定结果。特开平1-161155号公报上记述的自动分析仪不管自动分析仪清洗过多长时间,通电后就进行一定的清洗作业。因此,距前次清洗时间太长的话,会有清洗不充分的问题。
发明内容:
本发明提供一种标本处理仪,包括:标本处理装置,具有用于标本处理的流路,实施用所述流路处理所述标本的标本处理操作和清洗用于处理所述标本的所述流路的清洗操作;控制器,根据距所述标本处理装置的前次清洗操作的间隔时间,控制所述标本处理装置的清洗操作。
距所述标本处理装置的前次清洗操作的间隔时间越长,所述控制器使所述标本处理装置进行清洗操作的时间就越长。
所述标本处理装置按照一定顺序进行一次或多次清洗所述流路的清洗程序;距所述标本处理装置的前次清洗操作的间隔时间越长,所述控制器使所述标本处理装置进行清洗程序的次数就越多。
所述控制器根据距所述标本处理装置的前次清洗操作的间隔时间决定所述清洗程序的实施次数,让所述标本处理装置实施所定次数的清洗程序。
当距所述标本处理装置的前次清洗操作的间隔时间未超过基准时间时,所述控制器将所述清洗程序的实施次数定为第一次数,当间隔时间超过基准时间时,将所述清洗程序的实施次数定为比所述第一次数多的第二次数。
所述标本处理装置还有吸移所述标本的吸移部件、供应试剂的试剂供给部件和检出表示所述标本特征的特征信息的检测器;所述流路将所述吸移部件吸移的所述标本和所述试剂供给部件提供的所述试剂供应给所述检测器;所述清洗程序包含不从所述吸移部件吸移所述标本而直接通过所述流路向所述检测器供应所述试剂供给部件提供的试剂的动作。
在所述清洗程序中,所述检测器对所述试剂供给部件提供的所述试剂进行与所述标本特征信息的检测动作同样的检测动作;所述控制器根据所述检测器对所述试剂供给部件提供的所述试剂进行的所述检测动作所获得的检出结果,判断所述标本处理仪的状态。
所述标本处理装置在所述标本处理操作中由所述标本和试剂制备测定试样,同时在所述清洗操作中用与所述标本处理操作同样的试剂清洗所述流路。
所述标本处理仪,还包括输出当下时间的时间输出部件,其特征在于:所述控制器根据所述时间输出部件输出的时间,获取距所述标本处理装置的前次清洗操作的间隔时间,根据所获取的所述间隔时间控制所述标本处理装置的清洗操作。
所述控制器在所述标本处理仪的关机处理中让所述标本处理装置进行所述清洗操作;距所述标本处理装置的前次清洗操作的间隔时间是距前次关机处理的时间;所述控制器根据所述距前次关机处理的时间,控制所述标本处理装置在所述前次关机处理后首次进行的清洗操作。
所述标本处理装置在所述关机处理中进行的清洗操作与所述标本处理装置在所述前次关机处理后首次进行的清洗操作不同。
所述控制器在所述标本处理仪的启动处理中,根据所述距前次清洗操作的间隔时间控制所述标本处理装置的清洗操作。
本发明还提供一种标本处理装置具有用于标本处理的流路,实施用所述流路处理所述标本的标本处理操作和清洗所述标本处理用的所述流路的清洗操作,其清洗方法包括以下步骤:(a)检测距所述标本处理装置的前次清洗操作的间隔时间;及(b)根据检出的所述间隔时间控制所述标本处理装置的清洗操作。
所述步骤(b)包括以下步骤:距所述标本处理装置的前次清洗操作间隔时间越长,让所述标本处理装置进行清洗操作的时间就越长。
附图说明:
图1A和图1B为实施方式所涉及的标本分析仪的整体结构斜视图;
图2为标本容器外观的斜视图;
图3为样架的外观斜视图;
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