[发明专利]交流气体放电显示屏无效

专利信息
申请号: 200910209596.5 申请日: 2009-10-30
公开(公告)号: CN101764013A 公开(公告)日: 2010-06-30
发明(设计)人: 赵之明;宋利建;吕旭东 申请(专利权)人: 四川虹欧显示器件有限公司
主分类号: H01J17/49 分类号: H01J17/49;H01J17/04;H01J17/16
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚
地址: 621000 四川省绵阳市*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 交流 气体 放电 显示屏
【说明书】:

技术领域

发明涉及彩色显示屏制造领域,具体而言,涉及一种交流气体放电显示屏。

背景技术

在现有的等离子显示屏设计制造中,通常将含ITO(Indium TinOxides,氧化铟锡)的XX-YY电极结构中的维持电极X和扫描电极Y设计成相同的数量,相邻单元的电极对按照X-XY-YX-XY-Y进行排列配对,其纵截面示意图如图1所示。

发明人发现现有技术中BUS电极若线条设计较粗,导致光效降低。

发明内容

本发明旨在提供一种交流气体放电显示屏,能够解决现有技术中BUS电极若线条设计较粗,导致光效降低的问题。

在本发明的实施例中,提供了一种交流气体放电显示屏,包括:玻璃基板、障壁、荧光粉、介质、ADD电极、下板玻璃、MgO介质保护膜,等离子显示屏还包括:维持电极X、扫描电极Y和BUS电极,其中

扫描电极Y和相邻的两个维持电极X构成放电间隙;

BUS电极设置于障壁顶端。

优选地,在上述交流气体放电显示屏中,扫描电极Y位于障壁空间的正中位置。

优选地,在上述交流气体放电显示屏中,维持电极X具体包括Ag电极和ITO电极,其中维持电极X的Ag电极设置于障壁宽向的顶部;ITO电极沿Ag电极宽向方向延伸至放电空间与扫描电极Y构成电极对。

优选地,在上述交流气体放电显示屏中,障壁顶部位于ITO电极的正中位置,ITO电极沿宽度方向相邻的放电空间延伸至所需的放电间隙处。

优选地,在上述交流气体放电显示屏中,Ag电极位于ITO的正中位置。

优选地,在上述交流气体放电显示屏中,Ag电极的分布方式具体为:沿障壁的顶部的宽向分布。

优选地,在上述交流气体放电显示屏中,维持电极X的Ag电极的分布具体为:沿障壁的顶部的横宽向分布。

优选地,在上述交流气体放电显示屏中,维持电极X的Ag电极的线条宽度和障壁顶宽相近。

在上述实施例中,通过将扫描电极Y和相邻的两个维持电极X构成放电间隙,且将BUS电极设置于障壁顶端,使BUS电极的线条不会较粗,从而使BUS电极对光效的影响程度降低,提高了光效,克服了现有技术中BUS电极若线条设计较粗,导致得光效降低的问题。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解,构成本申请的一部分,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:

图1示出了现有技术中等离子屏结构的纵截面示意图;

图2示出了根据本发明的一个实施例的交流气体放电显示屏的纵截面示意图;

图3示出了根据本发明的一个实施例的流气体放电显示屏的放电示意图;

图4示出了根据本发明的一个优选实施例的含有ITO电极的工艺示意图;

图5示出了根据本发明的一个优选实施例的含有ITO电极和Ag电极的工艺示意图;

图6示出了根据本发明的一个优选实施例的含有ITO电极、Ag电极、介质和MgO介质保护膜的工艺示意图;

图7示出了根据本发明的一个优选实施例的Ag电极沿障壁的顶部的宽向分布的平面结构示意图;

具体实施方式

下面将参考附图并结合实施例,来详细说明本发明。

图2示出了根据本发明的一个实施例的交流气体放电显示屏的纵截面示意图,包括:玻璃基板201、障壁202、荧光粉203、介质204、ADD电极205、下板玻璃206、MgO介质保护膜207,等离子显示屏还包括:维持电极X 208、扫描电极Y 209和BUS电极210,其中

扫描电极Y 209和相邻的两个维持电极X 208构成放电间隙;

BUS电极210设置于障壁202顶端。

在本实施例中,通过将扫描电极Y和相邻的两个维持电极X构成放电间隙,且将BUS电极设置于障壁顶端,使BUS电极的线条不会较粗,从而使BUS电极对光效的影响程度降低,提高了光效,克服了现有技术中BUS电极若线条设计较粗,导致得光效降低的问题。

同时,在本实施例中,通过将BUS电极设置于隔壁顶端,使BUS电极的线条不至于较细,使BUS电极电阻降低,降低了等离子的制造成本和缺陷出现的几率,克服了现有技术中BUS电极线条较细导致的缺陷增大,电阻增大,制造成本较高的问题。

优选地,在上述交流气体放电显示屏中,扫描电极Y位于障壁空间的正中位置。如图2所示,扫描电极Y 209位于障壁空间的正中位置。

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