[发明专利]光学防伪元件及包含该光学防伪元件的光学防伪产品有效
申请号: | 200910209648.9 | 申请日: | 2009-11-02 |
公开(公告)号: | CN101699323A | 公开(公告)日: | 2010-04-28 |
发明(设计)人: | 张静方;王晓利 | 申请(专利权)人: | 中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;B42D15/00;B42D15/10 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;王艳春 |
地址: | 100070 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 防伪 元件 包含 产品 | ||
1.一种光学防伪元件,包括:
基层;以及
光栅层,形成于所述基层上并且包括具有二维光栅结构的第一区 域,具有全息光栅结构第二区域,以及第三区域,所述第三区域在自 身平面内转动时呈现明显的颜色变化而借助于偏振光学器件观察时仅 呈现亮度变化;
其中,所述二维光栅结构使得在自然光照条件下,所述光学防伪元 件在自身平面内转动时,所述第一区域呈现第一颜色变化,以及在所述 自然光照条件下,在所述光学防伪元件与一偏振光学器件之间发生相 对转动的情况下,当通过所述偏振光学器件观察所述第一区域时,所述 第一区域呈现不同于所述第一颜色变化的第二颜色变化;
其中,所述二维光栅结构的光栅周期为0.1μm-2.0μm,槽深为 0.02μm-0.8μm,折射率为1.2-2.6,厚度为0.02μm-1μm。
2.根据权利要求1所述的光学防伪元件,其中,所述二维光栅结 构的光栅周期为0.2μm-1.0μm,槽深为0.05μm-0.4μm,折射率为 1.2-2.6,厚度为0.05μm-0.5μm。
3.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件,进一步包括用于吸 收透射光的吸收层,所述吸收层形成为覆盖所述光栅层或所述基层的 至少一部分,并且所述吸收层上形成有能够被分辨的符号、荧光图案 和用于机读的磁性介质层至少之一。
4.一种光学防伪产品,包括根据权利要求1或2所述的光学防伪 元件。
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