[发明专利]图案形成方法

权利要求书

1.一种图案形成方法，其特征在于，包括以下步骤：

a)在基板上形成第一光刻胶层；

b)在所述第一光刻胶层上形成第二光刻胶层；以及

c)对所述第一光刻胶层和第二光刻胶层进行曝光、显影，从而形成凹割形状的光刻胶图案，

所述第一光刻胶层通过由以下化学式1所表示的化合物来形成，所述第二光刻胶层的感光速度比第一光刻胶层的感光速度慢，

[化学式1]

所述化学式1中，R₁至R₃分别独立地表示氢或碳原子数为1至10的烷基，n表示10至1000的整数。

2.根据权利要求1所述的图案形成方法，其特征在于：

所述化学式1的化合物的重均分子量为8,000至15,000。

3.根据权利要求1所述的图案形成方法，其特征在于：

所述第一光刻胶层通过在基板上涂敷正型第一光刻胶组合物后，进行预固化而形成，所述第一光刻胶组合物包含10-30重量％的化学式1所表示的化合物、2-10重量％的二叠氮化物类感光化合物、以及余量的有机溶剂。

4.根据权利要求1所述的图案形成方法，其特征在于：

所述第二光刻胶层通过在第一光刻胶层上涂敷第二光刻胶组合物后，进行预固化而形成，所述第二光刻胶组合物包含10至30重量％的酚醛清漆树脂、15至30重量％的二叠氮化物类感光化合物、以及余量的有机溶剂。

5.根据权利要求4所述的图案形成方法，其特征在于：

所述酚醛清漆树脂为由间甲酚单独合成的酚醛清漆树脂、由对甲酚单独合成的酚醛清漆树脂、使用雷琐酚(的酚醛清漆树脂、或者将水杨醛与苯甲醛进行反应而制备的重均分子量为3,000至30,000的酚醛清漆树脂。

6.根据权利要求1所述的图案形成方法，其特征在于：

所述第一光刻胶层的厚度为200-1500nm，第二光刻胶层的厚度为200-1700nm。

7.根据权利要求1所述的图案形成方法，其特征在于，在步骤c)结束后还包括以下步骤：

d)在所述光刻胶图案上蒸镀金属；以及

f)通过剥离工序从所述蒸镀金属的光刻胶图案中剥离第一光刻胶层和第二光刻胶层。

8.根据权利要求1所述的图案形成方法，其特征在于：

所述方法用于形成半导体元件或者显示器元件的导电性图案。

9.根据权利要求3或4所述的图案形成方法，其特征在于：

所述有机溶剂选自丙二醇甲醚乙酸酯、乳酸乙酯、乙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇单甲醚、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、以及1-甲基-2-吡咯烷酮中的一种以上的化合物。