[发明专利]酞菁组合物和使用该组合物的光电导材料、电子照相感光体、电子照相感光体盒和成像装置

权利要求书

1.一种酞菁组合物，其中同时包含通式(3)表示的至少一种酞菁化合物和通式(4)表示的至少一种酞菁化合物：

化学式3

化学式4

在上述通式(3)和(4)中，

M³和M⁴各自表示选自长周期型周期表的第13族的原子，M³和M⁴是同种原子，

X⁵～X⁸各自独立地表示卤原子，

Y¹表示能键合到M³上的一价键合基团，

Y²表示能键合到M⁴上的一价键合基团，至少Y¹或Y²之一是卤原子，和

e、f、g和h各自独立地表示0～4的整数，而且满足e+f+g+h≥1。

2.如权利要求1所述的酞菁组合物，其中所述酞菁组合物具有共结晶性结构。

3.如权利要求2所述的酞菁组合物，其中所述酞菁组合物通过机械的无定形化步骤进行制备。

4.一种光电导材料，其中包含权利要求1～3中任一项所述的酞菁组合物。

5.一种电子照相感光体，该电子照相感光体包含导电性支持体和在所述支持体上形成的感光层，其中，所述感光层中含有权利要求1～3中任一项所述的酞菁组合物。

6.一种电子照相感光体盒，所述电子照相感光体盒包括：

权利要求5所述的电子照相感光体；和

下列至少一个部件：

给所述电子照相感光体充电的充电部件，

使充电的所述电子照相感光体曝光以形成静电潜像的曝光部件，和

使在所述电子照相感光体上形成的静电潜像显影的显影部件。

7.一种成像装置，所述成像装置包括：

权利要求5所述的电子照相感光体；

给所述电子照相感光体充电的充电部件；

使充电的所述电子照相感光体曝光以形成静电潜像的曝光部件；和

使在所述电子照相感光体上形成的静电潜像显影的显影部件。