[发明专利]UV热压转印成型制程有效
申请号: | 200910210196.6 | 申请日: | 2009-10-30 |
公开(公告)号: | CN102049913A | 公开(公告)日: | 2011-05-11 |
发明(设计)人: | 刘锦彩 | 申请(专利权)人: | 正清国际有限公司 |
主分类号: | B41M3/12 | 分类号: | B41M3/12;B41M7/00 |
代理公司: | 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 | 代理人: | 郑永康 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | uv 热压 成型 | ||
技术领域
本发明涉及一种UV热压转印成型制程。
背景技术
将中间载体薄膜上的图文利用相应的压力转移到承印物上的印刷方法,称为转印,而根据采用的工法不同,转印可以分为:热转印、水转印、气转印、全像印刷、丝网转印或低温转印等。
而其中热转印技术的特点为:操作简单、生产工序少、效率高、附着力好、光泽度高、图文清晰、套色准确、色彩鲜艳等,烫印后可以进行喷油喷砂、二次注塑、折弯冲剪等后加工处理,故,热转印技术已经是目前所非常广泛使用的一种技术。
热转印技术其原理为预先把彩色图案印在耐热基材薄膜上(通过离型处理),再配合专用的转印设备,以烫印的方式转印到产品的表面,即使是多种颜色的图案,由于转印作业只是一个流程,故客户可以缩短印刷图案的时间,并且也可以减少印刷错误所造成的材料损失,利用热转印膜技术印刷可以将多色图案一次成图,无须套色,简单的设备也可以印出逼真的图案。
请参照中国台湾专利申请案号第095102148号「转印薄膜」,其是指一种于轴卷收藏时其图样不会发生相互沾黏的转印薄膜,其包括一透明(或不透明)基底层、一离型层、一热溶胶膜或感应胶膜及一图像层所组成,主要是在热溶胶膜或感应胶膜内加入约5%-50%的抗回黏剂,该抗回黏剂是粉状物,成份包含:滑石粉占5%、TiO2占5%、SiO2占5%、有机或无机的化合物35%及高分子化合物占50%,图像层则是利用平版、凸版或凹版印刷,或是以打印机直接输出图像而快速形成于热溶胶膜或感应胶膜上;由于添加有抗回黏剂,故转印薄膜可任意实施为卷筒状或片状,能避免于轴卷或叠置时图样因相互沾黏而导致受损。
前述转印薄膜是为一种供热转印用的转印薄膜,其完成转印作业后仅需将基底层掀除即可完成热转印作业,然而此种热转印却不具有保护层,完成转印作业的工件表面因无保护层做为图像层的防护,其图像层易受外在因素(如氧化、侵蚀等)而产生剥落,因此即有人推出以UV材质做为完成热转印工件的表面保护处理,请参阅图1所示,其UV保护层13是介于离型膜12及印刷层14之间,当完成转印且基底层撕除后,仍得于印刷层14表面形成一做为保护作用的UV保护层13。
而现有以UV材质做为保护层的转印薄膜,因早已通过干燥工法将离形层12、UV保护层13、印刷层14及热熔胶层15形成于基底层11以利进行工件覆盖转印,然而UV保护层形成于基底层时易因其已略为固化而造成延展性、附着力不佳的缺点,以致具UV保护层的转印薄膜披覆于高曲度工件时易产生碎裂的情形,因此现有具有UV保护层的转印薄膜仅适用于曲率不高的工件,以避免转印薄膜过于弯折转印而造成UV保护层碎裂。
发明内容
本发明所要解决的主要技术问题在于,克服现有的具有UV保护层转印薄膜存在的仅适用于曲率不高工件的缺点,本发明提供一种UV热压转印成型制程,其是一种针对具UV保护层的转印薄膜进行二次干燥成型的热压转印制程,以利UV保护层于未进行热转印时得以保持挠性状态形成于转印薄膜,而当完成热转印制作后再续行固化加工,以利具UV保护层的转印薄膜得以应用于高曲率工件的转印制程,进而增强UV保护层的附着力。
为达到前述创作目的,本发明「UV热压转印成型制程」其转印制程依序包括有:
一对依序具有基底层、离形层、UV保护层、印刷层及热熔胶层的转印薄膜进行加热,以利离形层、UV保护层、印刷层及热熔胶层得以成形于基底层,并保持UV保护层具有挠曲延展性的第一阶段热干燥步骤,该第一阶段热转印步骤通过远红外线或热风对转印薄膜进行8~10分钟的烘干;
一将转印薄膜的热熔胶层一面贴附于工件表面,并使热熔胶层受热熔融而黏附印刷层及UV保护层于工件表面的热转印步骤,该热转印步骤是通过真空压膜方式使转印薄膜贴附于工件表面以进行热压转印;
一对转印薄膜进行UV紫外线照射以利UV保护层固化的第二阶段干燥步骤,该第二阶段干燥步骤是对UV保护层进行约3秒钟的紫外线照射;
一将基底层撕除,以利UV保护层及印刷层仍得受热熔胶层黏附于工件表面的离形步骤;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于正清国际有限公司,未经正清国际有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910210196.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。