[发明专利]光学元件

说明书

技术领域

本发明涉及在DVD(注册商标)、蓝光光盘(注册商标)的记录(录音、录像)或重放用装置中使用的光学元件。具体地，本发明涉及元件表面层叠有氧化隔断膜以防止与氧反应的光学元件。

背景技术

现有技术中，已知有，例如日本特开JP2004-197067号公报等所示，通过在制造诸如波长板、偏振板、棱镜、反射镜、物镜等光学元件的过程中添加防氧化剂来制造防氧化的光学元件。

对于用蓝光光盘录音、录像等记录用的特定的短波长的光例如390nm～420nm等的光，波长板、偏振板、棱镜、反射镜、物镜等光学元件由于受到光的照射而白浊化并劣化。因此，不能用于录音、录像等记录中。

在日本特开JP2004-197067号公报中，在元件内部添加了防氧化剂。但是，因为在元件表面没有稠密配置防氧化剂的化合物，所以可能因例如390nm～420nm等短波长的光的长时间照射而仍然劣化。

发明内容

本发明的目的在于提供一种即使受到上述那样的特定的短波长的光长时间照射也难以发生白浊化和劣化的光学元件。

作为本发明的解决方案的例子，有如权利要求1～3记载的光学元件。

本发明者们发现，由如上所述的特定的短波长的光的照射而导致的光学元件的白浊化及劣化，是由于光的照射而使元件与空气中的氧分子反应，发生化学变化而引起的。并且还发现，通过防止光学元件表面与氧接触，可以大幅改善光学元件的白浊化及劣化。

因此，在本发明的一个实施形态中，对在DVD、蓝光光盘等中记录、重放用装置中使用的光学元件进行改良，在元件的最外层层叠具有氧隔断性的膜。具体地，将具有氧隔断性的膜层叠(或涂敷)在元件的表面、和/或背面、和/或侧面。

在本发明的另一个实施形态中，提供一种波长板、偏振板、棱镜、反射镜、物镜等的光学元件，是在蓝光光盘装置中使用的光学元件中，在元件的最外层层叠有具有隔断氧的性质的膜，即使在例如390nm～420nm等的短波长的蓝光的激光中也不会白浊化及劣化，能够用于重放、录音、录像等的记录。

在本发明的另一个实施形态中，在用于蓝光光盘装置的光学元件的表面、背面、侧面中的至少1个面(优选所有的面)上层叠(或涂敷)具有隔断氧的性质的膜。采用这种方式，即使在例如390nm～420nm等的短波长的蓝光的激光中光学元件也不会白浊化及劣化，能够在重放、录音、录像等的记录中使用。

如果说明具有隔断氧的性质的膜的优选例子，最佳的例子是，通过例如采用真空蒸镀层叠SiO₂等的金属氧化物(氧阻止层)而形成的膜，或者通过以湿法(溶液涂敷)涂敷SiO₂+氟(氧阻止层)而形成的膜。此外，并不仅限于SiO₂，也可以层叠SiON、Si+DLC、氮化硅(SiF₄)等的金属氧化物。

作为层叠方法，除了真空蒸镀、溶液涂敷法(浸渍法)之外，还可以采用溅射法、旋涂法等的方法。

本发明的光学元件优选为波长板、偏振板、棱镜、反射镜、物镜。

具体实施方式

说明本发明的多个实施例的光学元件。

通过对例如波长板的包含透过蓝光激光的区域(有效直径约3mm左右)的整个表面及背面进行蒸镀，层叠SiO₂等的金属氧化物(氧阻止层)。同样地，也可以在例如波长板的整个侧面上也蒸镀，层叠SiO₂等的金属氧化物(氧阻止层)。

或者，在波长板的透过蓝光激光的范围中以湿法(溶液涂敷)形成SiO₂+氟的涂层(氧阻止层)。分析的结果确认了，通过这些处理，元件表面的氧透过率与未处理过时相比，能减少到0.4％左右。

当然，并不仅限于SiO₂，层叠SiON、Si+DLC(类金刚石碳)、氮化硅(SiF₄)等的金属氧化物，也可以得到同样的效果。

在采用溶液涂敷法时，作为涂敷膜种类，还可以采用氟树脂、氯乙烯、偏二氯乙烯树脂、偏二氟乙烯树脂、丙烯树脂、聚酯树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂等。

波长板等的光学元件为有机化合物，可以使用环烯系聚合物的ARTON(注册商标，ア-トンJSR制造)、ZEONOR(注册商标，ゼオノア、日本ゼオン制造)、环烯聚合物(COC)即アペル(注册商标，三井化学制造)等，另外，也可以采用其他的环烯系聚合物、聚碳酸酯、聚乙烯醇、或三乙酰纤维素等。

对本发明的光学元件实施了表征其性能提高的耐光性试验。