[发明专利]平版印刷术的工艺和系统有效

专利信息
申请号: 200910211811.5 申请日: 2003-07-10
公开(公告)号: CN101710228A 公开(公告)日: 2010-05-19
发明(设计)人: S·斯里尼瓦伞;B·-J·乔伊;M·瓦茨;N·苏马克;R·弗伊欣;M·美斯尔;R·伯尼卡策;G·维尔森 申请(专利权)人: 分子制模股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;B81C1/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 茅翊忞
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 平版 印刷术 工艺 系统
【权利要求书】:

1.一种用于形成基底上的图形的系统,包括:

一支承基底的本体;

一连接于本体并具有一图形区域的模板;

一连接于本体的位移系统,用来在基底和模板之间提供相对运动,并放置模板 使之与基底的一部分重叠以形成一图形的部分;

一液体分配器,该液体分配器被连接以将光激活的光固化液体分配到图形部分 的子部分上,通过减小基底和模板之间的距离而使所述位移系统连接为有选择地放 置光激活的光固化液体与模板相接触,

一光源,它照在图形部分上,使光有选择地固化光激活的光固化液体;以及

一力探测器,它连接于印刷头,以便通过模板和光激活的光固化液体之间的接 触产生指示一施加到模板上的力的信息,使位移系统建立一根据信息实施距离变化 的速率,以使延伸到图形部分的基底外面的区域的光激活的光固化液体量减到最 小。

2.如权利要求1所述的系统,其特征在于,位移系统还包括一运动平台,以 沿第一和第二横向轴线在基底和模板之间提供相对运动,基底支承在该平台上,印 刷头与模板附连,以沿横向于第一和第二轴线延伸的第三轴线在基底和模板之间提 供相对运动。

3.如权利要求1所述的系统,其特征在于,还包括一连接于模板的细调定向 系统,以允许模板相对于基底作枢转运动,从而响应于施加到模板的力相对于基底 保持一平行的定向。

4.如权利要求2所述的系统,其特征在于,还包括一连接于运动平台的细调 定向系统,以允许基底相对于模板响应于施加到基底的力作运动。

5.如权利要求4所述的系统,其特征在于,所述运动平台还包括一基底卡盘, 它支承基底和一连接于该基底卡盘的基底倾斜模块,细调定向系统连接于倾斜模块 以允许倾斜模块改变基底的倾斜,并响应于施加到基底的力保持基底和模板平行的 定向。

6.如权利要求1所述的系统,其特征在于,模板还包括带有图形区域的第一 和第二相对的侧边,而第一表面设置在第一侧边上,图形区域包括一构有图形的表 面和一从该构有图形的表面朝向第二侧边延伸的凹陷,并结束在一终点,第一表面 与第二侧边间隔开一第一距离,所述终点与第二侧边间隔开一第二距离,而构有图 形的表面与第二侧边间隔开一第三距离,使第一距离不同于第二和第三距离。

7.如权利要求1所述的系统,其特征在于,还包括一具有一第一可弯曲件的 细调定向系统,其中,第一可弯曲件被构造成围绕一第一定向轴线枢转,而一第二 可弯曲件连接于第一可弯曲件,其中,第二可弯曲件被构造成围绕一第二定向轴线 枢转,一连接于第二可弯曲件的支承件,其中,模板附连到该支承件上。

8.如权利要求7所述的系统,其特征在于,还包括一连接于细调定向系统的 预校准平台,其中,预校准平台被构造成在使用过程中移动细调定向系统朝向基底 和远离基底。

9.如权利要求2所述的系统,其特征在于,还包括一围绕至少印刷头和运动 平台和一温度控制系统的封闭的外壳,其中,温度控制系统被构造成在使用过程中 阻止外壳内的温度变化大于1℃。

10.如权利要求2所述的系统,其特征在于,还包括一连接于运动平台的空气 压力计,其中,空气压力计被构造成可确定基底和模板之间的距离。

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