[发明专利]密封装置有效
申请号: | 200910212354.1 | 申请日: | 2009-11-06 |
公开(公告)号: | CN101866078A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | 水流则幸;奥山享司;西村诚;高宗由夏 | 申请(专利权)人: | 常阳工学股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1339 | 分类号: | G02F1/1339;H01L51/56 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 王漪;郑霞 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 密封 装置 | ||
1.一种密封装置,其特征在于包括:
空室壳体,其在上面形成开口部而具有吸排气口,并且在内部可升降地设置有台面和下侧基板的支持杆及上侧基板的支持杆;
片材构件,其覆盖所述空室壳体的开口部,具有柔软性及透光性;
UV屏蔽支持框,其外形为大致与所述空室壳体一致的形状,具有吸排气口,并且在内部容纳UV穿透屏蔽并载置在所述片材构件上;
可动密封盘,其覆盖所述UV屏蔽支持框上面的开口部;及
光源部,其配设在所述可动密封盘的上方;
在所述空室壳体上隔着片材构件而配置有UV屏蔽支持框及可动密封盘时,以所述片材构件作为界线的下部的空室壳体内成为可减压的第一处理室,而另一方面,在以所述片材构件作为界线的上部,由所述UV屏蔽支持框及可动密封盘所围住的内部成为可减压的第二处理室。
2.根据权利要求1所述的密封装置,其包括:
第一支持杆,其在所述空室壳体内支持第一基板,并使其可升降;
第二支持杆,其支持第二基板并使其可升降;及
台面,其载置单元构造体并使其可升降。
3.根据权利要求2所述的密封装置,其配置成:所述第一支持杆在所述台面内升降。
4.根据权利要求2所述的密封装置,其中在所述空室壳体的底面下构成驱动机构,用以升降所述第一支持杆、所述第二支持杆及所述台面。
5.根据权利要求2所述的密封装置,其中在所述空室壳体的任意侧面,设置可保持所述第一处理室的气密状态的开关门。
6.根据权利要求2所述的密封装置,其中在所述台面的侧部设置对准相机,用以进行所述第一基板与所述第二基板的对准调整。
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