[发明专利]超支化聚酯微光学光刻胶

权利要求书

1.一种超支化聚酯微光学光刻胶，由以下质量百分比的原料组成：

超支化碱溶性感光聚合物：    60.0％～85.0％，

活性稀释剂：                5.0％～15.0％、

交联剂：                    5.0％～15.0％、

光引发剂：                  1.0％～10.0％、

德谦466：                   0.1％～1.0％，

所述超支化碱溶性感光聚合物通过发散法合成，其具体合成方法如 下：以多元醇为起始核，利用多元醇的羟基与酸酐反应，再利用反应生 成的羧基与含有一个环氧基的环氧化合物反应，该反应生成的羟基再与 酸酐反应，这样反复扩链至需要的分子量，扩链反应的最后一步应是与 酸酐反应，使合成的超支化聚合物分子外围含有大量的羧基，利用羧基 与分子中含有环氧基和双键的化合物的环氧基反应合成超支化碱溶性感 光聚合物；反应过程中，通过使用不同的起始核，加入官能度不同的酸 酐以及扩链次数，控制合成聚合物的支化度和分子量；以聚苯乙烯为标 准，采用凝胶渗透色谱法分析，超支化碱溶性感光聚合物分子量在 500～5000g/mol之间，分子链末端含有羧基、羟基、甲基丙烯酰氧基，丙 烯酰氧基，或乙烯基、烯丙基醚，末端基团数目总合≥16个，其中羧基数 目不少于末端基团数目总合的1/3。

2.据权利要求1所述超支化聚酯微光学光刻胶，其特征在于：所述 多元醇包括乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、三缩四乙二醇、丙二醇、二 丙二醇、三丙二醇、三羟甲基丙烷、丙三醇、肌醇、各种分子量的聚乙 二醇。

3.据权利要求1所述超支化聚酯微光学光刻胶，其特征在于：所述 酸酐包括苯酐、偏苯三酸酐、丁二酸酐、丁烯二酸酐。

4.据权利要求1所述超支化聚酯微光学光刻胶，其特征在于：所述 含有一个环氧基的环氧化合物指环氧乙烷、环氧丙烷、环氧氯丙烷、环 氧丙烷丁基醚。

5.据权利要求1所述超支化聚酯微光学光刻胶，其特征在于：所述 的活性稀释剂，包括甲基丙烯酸酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、醋酸乙烯酯、 乙烯基醚、烯丙基缩水甘油醚、2-苯氧基乙基丙烯酸酯、乙氧基乙氧基乙 基丙烯酸酯、环三羟甲基丙烷甲缩醛丙烯酸酯、硬脂醇丙烯酸酯、硬脂 醇甲基丙烯酸酯；所述交联剂包括三丙二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙 烯酸酯、乙氧化1，6-己二醇二丙烯酸酯、丙氧化1，6-己二醇二丙烯酸酯、 二丙二醇二丙烯酸酯、乙氧化二丙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇200二丙 烯酸酯、1，4-丁二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、丙氧化新戊二醇 二丙烯酸酯、聚乙二醇400二丙烯酸酯、聚乙二醇600二丙烯酸酯、三 羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、丙氧化三羟甲 基丙烷三丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、丙氧化甘油三丙 烯酸酯、乙氧化甘油三丙烯酸酯。

6.据权利要求1所述超支化聚酯微光学光刻胶，其特征在于：所述 光引发剂为光生自由基型引发剂。