[发明专利]被蚀刻基体的制造方法以及感光性树脂组合物

权利要求书

1.一种被蚀刻基体的制造方法，其特征在于该方法包括：

在基体上涂布感光性树脂组合物，形成感光性树脂层的工序；

对所述感光性树脂层进行选择性曝光后，显影以形成树脂图案的工序； 以及

将所述树脂图案作为掩模，使用45℃以下的酸性或碱性蚀刻液对所述 基体进行选择性蚀刻的蚀刻工序；

使用50～80℃的碱性剥离液对所述树脂图案进行剥离的工序；

所述感光性树脂组合物包含：通过使来自含酸基的丙烯酸类树脂的一 部分酸基与来自含脂环族环氧基的不饱和化合物的环氧基反应而生成的碱 性可溶性树脂；三官能以上的多官能单体；光聚合引发剂；

所述三官能以上的多官能单体是指在光聚合引发剂的存在下，在1分 子中具有3个以上在光照射下能进行加成聚合的乙烯性双键的单体成分；

所述感光性树脂层的膜厚度为1～3μm；

所述多官能单体为六官能以上的单体。

2.如权利要求1所述的被蚀刻基体的制造方法，其特征在于：所述碱 性剥离液含有无机碱性化合物。

3.如权利要求1所述的被蚀刻基体的制造方法，其特征在于：相对于 所述碱性可溶性树脂100质量份，所述多官能单体含量为110～300质量份。

4.如权利要求1所述的被蚀刻基体的制造方法，其特征在于：所述感 光性树脂组合物进一步含有含氮单官能单体。

5.如权利要求4所述的被蚀刻基体的制造方法，其特征在于：所述含 氮单官能单体是丙烯酰基吗啉。

6.一种被蚀刻基体的制造方法，其特征在于该方法包括：

在基体上涂布感光性树脂组合物，形成感光性树脂层的工序；

对所述感光性树脂层进行选择性曝光后，显影以形成树脂图案的工序； 以及

将所述树脂图案作为掩模，使用45℃以下的酸性或碱性蚀刻液对所述 基体进行选择性蚀刻的蚀刻工序；

使用50～80℃的碱性剥离液对所述树脂图案进行剥离的工序；

所述感光性树脂组合物包含：通过使来自含酸基的丙烯酸类树脂的一 部分酸基与来自含脂环族环氧基的不饱和化合物的环氧基反应而生成的碱 性可溶性树脂；三官能以上的多官能单体；光聚合引发剂;

所述三官能以上的多官能单体是指在光聚合引发剂的存在下，在1分 子中具有3个以上在光照射下能进行加成聚合的乙烯性双键的单体成分；

所述感光性树脂层的膜厚度为3.5～5μm；

所述多官能单体为三官能单体；

所述感光性树脂组合物进一步含有双官能以下的单体。

7.如权利要求6所述的被蚀刻基体的制造方法，其特征在于：相对于 所述碱性可溶性树脂100质量份，含有所述多官能单体的含量为30～100质 量份，含有所述双官能以下的单体的含量为1～60质量份。

8.如权利要求1所述的被蚀刻基体的制造方法，其特征在于：，所述含 脂环族环氧基不饱和化合物相对于所述含酸基丙烯酸类树脂的比例为15摩 尔%以上。

9.如权利要求1所述的被蚀刻基体的制造方法，其特征在于：

所述基体是在基板上依次形成有第一Cr层、Cu层、第二Cr层的基体；

所述蚀刻工序包括：使用酸性蚀刻液对所述第二Cr层进行选择性蚀刻 的工序；使用酸性蚀刻液对所述Cu层进行选择性蚀刻的工序；以及使用碱 性蚀刻液对所述第一Cr层进行选择性蚀刻的工序。