[发明专利]防反射膜无效
申请号: | 200910215611.7 | 申请日: | 2009-12-22 |
公开(公告)号: | CN101770041A | 公开(公告)日: | 2010-07-07 |
发明(设计)人: | 小岛章世;臼井千春;村濑将幸;藤田宪人;疋田真也;野岛孝之 | 申请(专利权)人: | 日油株式会社 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11 |
代理公司: | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 | 代理人: | 段迎春 |
地址: | 日本东京都涉*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 | ||
1.一种通过在透明基材膜的表面层叠作为单层结构防反射层的低折射率层而构成的防反射膜,其特征在于,所述低折射率层的折射率为1.20~1.50。
2.根据权利要求1所述的防反射膜,其特征在于,所述低折射率层直接层叠在所述透明基材膜的表面。
3.根据权利要求1所述的防反射膜,其特征在于,所述低折射率层,通过折射率为1.50~1.65、厚度为1~50nm的易粘合层层叠在所述透明基材膜的表面而构成。
4.根据权利要求3所述的防反射膜,其特征在于,易粘合层为导电性易粘合层。
5.根据权利要求4所述的防反射膜,其特征在于,导电性易粘合层包含具有聚噻吩框架的导电性化合物。
6.根据权利要求1~5中的任何一项所述的防反射膜,其特征在于,低折射率层是通过使含有平均粒子径为10~100nm的中空硅石微粒子和聚合性粘合剂的低折射率层涂敷液固化而形成的。
7.根据权利要求1~5中的任何一项所述的防反射膜,其特征在于,低折射率层的光学膜厚为kλ/4,λ为光波长(400~650nm),k为1或3。
8.根据权利要求6所述的防反射膜,其特征在于,低折射率层的光学膜厚为kλ/4,λ为光波长(400~650nm),k为1或3。
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