[发明专利]铝合金表面氧化处理装置及处理方法无效
申请号: | 200910220159.3 | 申请日: | 2009-11-24 |
公开(公告)号: | CN101709449A | 公开(公告)日: | 2010-05-19 |
发明(设计)人: | 李杨;王亮;沈烈;张丹丹;王春华 | 申请(专利权)人: | 大连海事大学 |
主分类号: | C23C8/36 | 分类号: | C23C8/36 |
代理公司: | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人: | 李洪福 |
地址: | 116026 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 铝合金 表面 氧化 处理 装置 方法 | ||
1.一种铝合金表面氧化处理装置包括真空炉、进气系统、抽真空系统、供电系统、测温系统、冷却系统,所述的进气系统包括气瓶、稳压阀和进气口(10),进气口(10)安装在真空炉顶部,通过稳压阀与气瓶相连;所述的供电系统采用脉冲直流高压电源或直流溅射高压电源;所述的测温系统为常用KS型-热电偶(17);所述的抽真空系统包括真空泵(7)及其管路,所述的真空泵(7)通过管路与真空炉相连;其特征在于:所述的真空炉为离子扩渗设备,包括冷却观察室窗(11)、炉壁(13)、底座(14)和炉门,所述的炉壁(13)与阳极电源(9)相连;所述的真空炉内安装有工件平台和空心阴极辅助装置;所述的工件平台包括支座(16)、载物台(3)、绝缘体(5),所述的绝缘体(5)由中心平台和绝缘环组成、位于支座(16)上,所述的支座(16)位于真空炉底座(14)上,所述的载物台(3)位于绝缘体(5)的中心平台上,用于放置工件(6),所述的载物台(3)与阳极电源(9)连接;所述的空心阴极辅助装置由两个直径不同且带有孔洞的大圆筒(1)和小圆筒(2)组成,所述的大圆筒(1)和小圆筒(2)构成同轴双层圆筒,位于绝缘体(5)的绝缘环上,并通过绝缘环隔离,所述的小圆筒(2)和大圆筒(1)分别与阴极电源(4)连接。
2.根据权利要求1所述的铝合金表面氧化处理装置,其特征在于:所述的大圆筒(1)和小圆筒(2)由不锈钢制成,小圆筒(2)的直径为300~350mm,大圆筒(1)的直径为320~370mm,并保持大圆筒(1)与小圆筒(2)的间距为8~10mm,小圆筒(2)的筒壁上平均分布直径为7~10mm的孔洞,孔洞边缘最小间距为8~10mm。
3.一种铝合金表面氧化处理方法,其特征在于:包括以下步骤:
A、工件(6)的清洗与装炉
用工业清洗剂清洗工件(6)表面,然后进行装炉,将工件(6)放置在载物台(3)上,将载物台(3)与阳极电源(9)相连;
B、抽真空、起辉
启动真空泵(7)抽气,同时启动冷却系统,由进水口(8)进水,通过出水口(12)排水,期间通过冷却观察室窗(11)的窗口观察水流是否通畅;当真空炉内真空度达到13.3~133Pa时,通过进气口(10)充入净化过的氧气,氧气经过小圆筒(2)的孔洞,均匀分布在整个真空炉内,使工件(6)周围氧气浓度均衡;调节氧气的流量,使真空炉内的压强保持在133-1333Pa,打开电源,使真空炉内的氧气在高压电场的作用下发生电离,产生辉光放电效应;
C、升温阶段
其后续的操作随氧化工艺不同而变化,可向真空炉内连续通入氧气达到要求的低气压,范围50~1000Pa,并逐步调节电压、电流,控制氧化温度,通过流量计调节真空炉内气压;调节大圆筒(1)与小圆筒(2)之间的间距,接通大圆筒(1)和小圆筒(2)上的阴极电源(4),使双层圆筒保持空心阴极放电;期间可根据实际情况充入氩气,让氩气引起溅射,从而增加氧化放电强度,在工件(6)表面形成氧化膜层;
D、保温阶段
根据工艺要求,在300-600℃的温度下,保温1-4h;
E、冷却阶段
将真空炉内抽成低真空,关掉电源;待工件(6)随真空炉冷却到100℃时出炉。
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