[发明专利]油墨组合物以及使用该油墨组合物制造液晶显示器件的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种油墨组合物，具体涉及一种用于压印光刻和滚动印刷的 具有高耐热性的油墨组合物，以及一种使用该油墨组合物来制造液晶显示器 (LCD)的方法，该油墨组合物能够形成精确的精细图案。

背景技术

近来，随着信息显示变得更加有吸引力以及对使用便携式信息媒介的需 求增大，人们已经广泛地进行着对用于取代作为现有显示器件的阴极射线管 (CRT)的更轻薄的平板显示器(FPD)的研究和商品化。特别是，在FPD 之中，液晶显示(LCD)器件是通过使用液晶的光学各向异性来显示图像。 LCD器件具有极好的分辨率、显色性、图像质量等，因而广泛地应用于笔 记本、桌面监视器等。

LCD器件包括滤色器基板、阵列基板、以及介于滤色器基板和阵列基板 之间的液晶层。

有源矩阵方法，作为LCD器件中通常使用的驱动方法，被配置为通过 采用作为开关器件的非晶硅薄膜晶体管(a-Si TFT)来驱动像素单元的液 晶。

在下文中，将参照图1来详细描述现有技术LCD器件的结构。

图1为示意性地示出了现有技术LCD器件的分解透视图。

如图1所示，LCD器件包括滤色器基板5、阵列基板10、以及介于滤色 器基板5和阵列基板10之间的液晶层30。

滤色器基板5配备有具有多个用于呈现红色(R)、绿色(G)和蓝色 (B)的子滤色器7的滤色器C、用于分隔相邻子滤色器7并且阻挡光穿过 液晶层30的黑矩阵6、以及用于将电压施加于液晶层30的透明公共电极 8。

而且，阵列基板10配备有设置在水平和垂直方向上用于限定多个像素 区P的多条栅线16和数据线17、形成在栅线16和数据线17之间的交叉点 处作为开关器件的薄膜晶体管T、以及形成在各个像素区P上的像素区18。

具有该结构的滤色器基板5和阵列基板10通过形成在图像显示区的外 部边缘处的密封剂(未示出)来彼此相对连接，由此构成LCD面板。滤色 器基板5和阵列基板10之间的连接也可通过形成在滤色器基板5或者阵列 基板10处的连接键(未示出)来实现。

LCD器件的制造包括制成具有TFT的阵列基板所需的多次光刻工艺。

而且，为了形成应用于信息存储、小型传感器、光子晶体和光学元件、 微电子机械系统、显示器以及半导体的精细图案，人们实施了光刻工艺而使 用光来形成精细图案。

光刻工艺是指一系列工序，通过这些工序将印刷在掩模上的图案转移到 沉积薄膜的基板上，以形成所期望的图案。通过包括光刻胶涂覆、对准和曝 光、显影等等的多个复杂工序来实施光刻工艺。

首先，在将作为光敏电阻(photo resistor)的光刻胶涂覆在其上待形成预 定图案的薄膜上之后，将形成图案的光掩模与所述薄膜相对准，然后进行曝 光。在此，将所使用的光掩模划分为预定透明区和阻挡区。穿过透明区的光 可化学地改变该光刻胶。

光刻胶中的化学变化可取决于光刻胶的类型。对于正性光刻胶，曝光区 可溶于显影剂溶液中。相反，对于负性光刻胶，曝光区不溶于显影剂溶液 中。在本发明中，将示例性地给出关于使用正性光刻胶的情况的描述。

在曝光工序之后，通过显影剂溶液来去除光刻胶的曝光区，由此在薄膜 上产生预定的光刻胶图案。

之后，对薄膜进行蚀刻以与光刻胶图案一致，然后去除余下的光刻胶图 案，由此制成预定形状的薄膜图案。

在光刻工艺中，根据在曝光工序中所使用的光的波长来确定电路或图案 的行宽。考虑到当前的技术标准，由于光干涉而很难通过光刻工艺来在基板 上形成低于70nm的精细图案。

此外，随着图案开始变得超微化，由于曝光设备昂贵、需要高分辨率掩 模等而导致初期投资费用增大，造成生产成本过度增加。此外，由于在每次 形成图案时都应当进行包括曝光、曝光后烘焙、显影、显影后烘焙、蚀刻、 清洗等的复杂的工序，因此需要很长时间来进行这些工序，并且光刻工艺应 当重复多次，由此降低了生产率。