[发明专利]改良的基板干燥系统及干燥基板的方法

权利要求书

1.一种改良的基板干燥系统，可应用于干燥一基板，其特征在于其包括：

一基板容置槽，可将该基板容置其中；

一第一液体容置槽，装设于该基板容置槽的一第一侧边，以容置一第一液体；

一高频振动装置，设置于该第一液体容置槽的内部，该高频振动装置可产生高频振动以将该第一液体雾化成为一雾化第一液体；

一第二液体注入装置，装设于基板容置槽的一第二侧边，通过该第二液体注入装置可输入具有一适当温度的一第二液体于基板容置槽内，以浸泡基板，使得基板保持中温状态；

一第一排放装置，装设于基板容置槽的一第三侧边，该第三侧边与第一侧边及第二侧边为相邻边，该第一排放装置用以缓慢地排放该第二液体；

一第二排放装置，装设于基板容置槽的第三侧边，该第二排放装置用以全速地排放第二液体；

一气体输入装置，连接于第一液体容置槽，通过该气体输入装置可输入一第一气体于第一液体容置槽，该第一气体可将该雾化第一液体运送入已注有第二液体的基板容置槽内，当控制第一排放装置与第二排放装置的排放速率，而将第二液体从基板容置槽内排放出去时，基板表面的水分子受到雾化第一液体与第二液体的表面张力差距的影响，而被拉入第二液体之内，达到了干燥基板表面的效果；及

一有机气体排放装置，装设于基板容置槽的第二侧边，该有机气体排放装置可于基板干燥完成之后，将雾化第一液体及第一气体排出基板容置槽。

2.根据权利要求1所述的改良的基板干燥系统，其特征在于其中所述的基板容置槽更包括：

一第一侦测装置，装设于基板容置槽的槽壁，当该第二液体被注入于基板容置槽之时，通过该第一侦测装置可侦测第二液体的一第一准位；

一第二侦测装置，装设于基板容置槽的槽壁，且位于第一侦测装置的下方，当通过该第一排放装置缓慢地排放第二液体之时，该第二侦测装置可侦测第二液体的一第二准位；及

一第三侦测装置，装设于基板容置槽的槽壁，且位于第二侦测装置的下方，当通过该第二排放装置高速地排放第二液体之时，该第三侦测装置可侦测第二液体的一第三准位。

3.根据权利要求1所述的改良的基板干燥系统，其特征在于其中所述的第一液体为下列任一种：异丙醇、甲醇、与乙醇。

4.根据权利要求2所述的改良的基板干燥系统，其特征在于其中所述的第二液体为去离子水。

5.根据权利要求1所述的改良的基板干燥系统，其特征在于其中所述的第一气体为一洁净干燥的气体。

6.根据权利要求1所述的改良的基板干燥系统，其特征在于其中所述的高频振动装置为一超音波产生器。

7.根据权利要求2所述的改良的基板干燥系统，其特征在于其中所述的第一侦测装置为一气体背压式液位侦测器与一光反射式液位侦测器。

8.根据权利要求2所述的改良的基板干燥系统，其特征在于其中所述的第二侦测装置为一气体背压式液位侦测器与一光反射式液位侦测器。

9.根据权利要求2所述的改良的基板干燥系统，其特征在于其中所述的第三侦测装置为一气体背压式液位侦测器与一光反射式液位侦测器。

10.根据权利要求1所述的改良的基板干燥系统，其特征在于其中所述的适当温度的范围为25°～65℃。

11.根据权利要求1所述的改良的基板干燥系统，其特征在于其中更包括：

一气体流量控制装置，装设于该基板容置槽内部，且其位于该第一液体容置槽与基板容置槽的连接处，以控制该第一气体所运送的该雾化第一液体进入基板容置槽的流量；及

一层流装置，装设于基板容置槽的内部，当该基板被置入基板容置槽内之时，该层流装置位于基板的上方，当第一气体运送雾化第一液体进入基板容置槽内之后，雾化第一液体可通过层流装置，而均匀地分布于基板的表面。