[发明专利]基板支撑单元、使用该单元抛光基板的装置及方法有效

专利信息
申请号: 200910224193.8 申请日: 2009-11-26
公开(公告)号: CN101740450A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 李泽烨 申请(专利权)人: 细美事有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/00;H01L21/306
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 韩国忠清南道天*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 支撑 单元 使用 抛光 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基板支撑单元,包括:

真空板,用于真空吸附基板;

夹持部件,插入贯穿所述真空板的孔中;以及

驱动部件,垂直移动所述夹持部件以支撑放置在所述真空板上的基板,从 而使所述基板向上与所述真空板隔离开,其中,所述驱动部件包括:

上磁力构件,所述上磁力构件连接到所述夹持部件;

下磁力构件,所述下磁力构件中的一个磁极被定向,以使磁斥力在所述上 磁力构件和下磁力构件之间作用,所述下磁力构件设置在所述上磁力构件的下 方,以与所述上磁力构件相对设置;以及

线性驱动单元,所述线性驱动单元垂直移动所述下磁力构件。

2.如权利要求1所述的基板支撑单元,其中,所述夹持部件包括支撑所述 基板底面的支撑销、和支撑所述基板侧面的夹持销。

3.如权利要求2所述的基板支撑单元,其中,所述上磁力构件包括连接到 所述支撑销的第一上磁力构件、和连接到所述夹持销的第二上磁力构件。

4.如权利要求3所述的基板支撑单元,其中,所述下磁力构件包括:

第一下磁力构件,所述第一下磁力构件中的一个磁极被定向,以使磁斥力 在所述第一上磁力构件和第一下磁力构件之间作用,所述第一下磁力构件设置 在所述第一上磁力构件的下方;以及

第二下磁力构件,所述第二下磁力构件中的一个磁极被定向,以使磁斥力 在所述第二上磁力构件和第二下磁力构件之间作用,所述第二下磁力构件设置 在所述第二上磁力构件的下方,

其中,所述线性驱动单元包括:

垂直移动所述第一下磁力构件的第一线性驱动单元;以及

垂直移动所述第二下磁力构件的第二线性驱动单元。

5.如权利要求4所述的基板支撑单元,其中,所述第一上磁力构件和第二 上磁力构件,以及所述第一下磁力构件和第二下磁力构件均为环状。

6.如权利要求1所述的基板支撑单元,其中,在所述真空板的顶面限定有 多个真空吸附孔,在所述真空板内设置有使所述真空吸附孔彼此连接的真空管 线,

其中,所述基板支撑单元进一步包括:

为所述真空管线提供负压以真空吸附所述基板的抽气组件;以及

在所述基板向上与所述真空板隔离开的状态下,向所述真空管线供应气体, 以防止外界异物被引入所述真空吸附孔的气体供应组件。

7.如权利要求1所述的基板支撑单元,所述基板支撑单元进一步包括:

转动所述真空板的中空型旋转驱动单元;以及

插入到所述旋转驱动单元中空部分的后喷嘴组件,所述后喷嘴组件向所述 向上与真空板隔离开的基板的底面喷射清洗液。

8.如权利要求7所述的基板支撑单元,所述基板支撑单元进一步包括:垂 直移动所述后喷嘴组件的后喷嘴驱动单元,以使所述后喷嘴组件从所述真空板 的顶面伸出。

9.一种单晶圆型基板抛光装置,包括:

工艺室;

设置在所述工艺室内的基板支撑单元,所述基板支撑单元支撑基板;

对所述基板支撑单元支撑的基板抛光的抛光单元;以及

对所述基板支撑单元支撑的基板进行清洗的清洗单元,

其中,所述基板支撑单元包括:

真空板,用于真空吸附基板;

夹持部件,插入贯穿该真空板的孔中;以及

驱动部件,垂直移动所述夹持部件以支撑放置在所述真空板上的基板,从 而使所述基板向上与所述真空板隔离开,其中,所述驱动部件包括:

上磁力构件,所述上磁力构件连接到所述夹持部件;

下磁力构件,所述下磁力构件中的一个磁极被定向,以使磁斥力在所述上 磁力构件和下磁力构件之间作用,所述下磁力构件设置在所述上磁力构件的下 方,以与所述上磁力构件相对设置;以及

线性驱动单元,所述线性驱动单元垂直移动所述下磁力构件。

10.如权利要求9所述的单晶圆型基板抛光装置,其中,所述夹持部件包括 支撑所述基板底面的支撑销、和支撑所述基板侧面的夹持销。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于细美事有限公司,未经细美事有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910224193.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top