[发明专利]具有减小的磁头保持间距、头介质间距或头到软底层间距的记录介质有效
申请号: | 200910225825.2 | 申请日: | 2009-11-24 |
公开(公告)号: | CN101740043A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 高凯中;陆斌;B·F·法尔库;X·马 | 申请(专利权)人: | 希捷科技有限公司 |
主分类号: | G11B5/62 | 分类号: | G11B5/62;G11B5/66;G11B5/73;G11B5/725;G11B5/127;G11B5/84 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张政权 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 减小 磁头 保持 间距 介质 头到软 底层 记录 | ||
1.一种用于磁性数据存储的介质,包括:
磁性记录层;以及
位于所述磁性记录层上的分离的顺磁性或铁磁性外涂层,其中
保护性外涂层或润滑层不在所述顺磁性或铁磁性外涂层上方,并且
所述顺磁性或铁磁性外涂层的饱和磁化强度(Ms)约为100-1000emu/cc。
2.如权利要求1所述的介质,还包括:
在所述磁性记录层之下沉积的顺磁性或铁磁性夹层。
3.如权利要求2所述的介质,其特征在于,所述顺磁性或铁磁性夹层的饱和 磁化强度(Ms)约为100-1000emu/cc。
4.如权利要求2所述的介质,其特征在于,所述顺磁性或铁磁性夹层的饱和 磁化强度(Ms)大于约400emu/cc。
5.如权利要求2所述的介质,其特征在于,所述顺磁性或铁磁性夹层的饱和 磁化强度(Ms)大于约500emu/cc。
6.如权利要求2所述的介质,其特征在于,所述顺磁性或铁磁性夹层的饱和 磁化强度(Ms)大于约800emu/cc。
7.如权利要求2所述的介质,其特征在于,所述顺磁性或铁磁性夹层的饱和 磁化强度(Ms)大于约1000emu/cc。
8.如权利要求2所述的介质,其特征在于,所述顺磁性或铁磁性夹层的厚度 约为1-1000埃。
9.如权利要求2所述的介质,其特征在于,所述顺磁性或铁磁性夹层的厚度 约为1-500埃。
10.如权利要求2所述的介质,其特征在于,所述顺磁性或铁磁性夹层的厚度 约为10-500埃。
11.如权利要求2所述的介质,其特征在于,所述顺磁性或铁磁性夹层的厚度 约为100-500埃。
12.如权利要求2所述的介质,其特征在于,所述顺磁性或铁磁性夹层的厚度 约为200-400埃。
13.如权利要求2所述的介质,其特征在于,所述顺磁性或铁磁性夹层的厚度 约为250-350埃。
14.如权利要求2所述的介质,其特征在于,
所述顺磁性或铁磁性夹层是颗粒状的,并且包括钌(Ru)、铁(Fe)、钴(Co)、镍 (Ni)、碳(C)、晶体磁性材料、或它们的组合。
15.如权利要求2所述的介质,还包括:
在所述顺磁性或铁磁性夹层之下沉积的软磁底层(SUL),
其中,与没有顺磁性或铁磁性夹层的设备相比,所述顺磁性或铁磁性夹层减 小了来自所述SUL的噪声。
16.如权利要求1所述的介质,其特征在于,
所述顺磁性或铁磁性外涂层的饱和磁化强度(Ms)大于约400emu/cc,并且所述 顺磁性或铁磁性介质外涂层的厚度约为0.1-100埃。
17.如权利要求16所述的介质,其特征在于,所述顺磁性或铁磁性外涂层的 饱和磁化强度(Ms)大于约500emu/cc。
18.如权利要求16所述的介质,其特征在于,所述顺磁性或铁磁性外涂层的 饱和磁化强度(Ms)大于约800emu/cc。
19.如权利要求16所述的介质,其特征在于,所述顺磁性或铁磁性外涂层的 饱和磁化强度(Ms)大于约1000emu/cc。
20.如权利要求16所述的介质,其特征在于,所述顺磁性或铁磁性外涂层的 饱和磁化强度(Ms)的厚度约为0.5-50埃。
21.如权利要求1所述的介质,其特征在于,
所述顺磁性或铁磁性外涂层包括润滑剂,并且/或者是防腐蚀的。
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