[发明专利]光刻装置及用于校准该光刻装置的方法

权利要求书

1.一种用于校准光刻装置中的编码器的方法，所述编码器包括传感器和光栅，所述编码器被配置以测量所述光刻装置中的可移动的支撑件的位置，所述方法包括以下步骤：

使用干涉仪测量所述可移动的支撑件的位置；和

基于由所述干涉仪测量的所述可移动的支撑件的位置，来校准所述编码器。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述校准步骤包括确定所述编码器的位置校正值或位置校正因数，或上述两者。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，该方法包括将位置校正值或位置校正因数储存在一维或多维校准矩阵中。

4.根据权利要求2所述的方法，其中，所述位置校正值或位置校正因数或上述两者被确定，以在测量所述可移动的支撑件的位置时对所述编码器产生的潜在的绝对测量误差进行校正。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述可移动的支撑件是被配置以保持衬底的衬底台。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述可以动的支撑件是构图装置支撑件，其被配置以支撑构图装置，所述构图装置被配置以提供图案化的辐射束。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光栅布置在所述可移动支撑件上，所述传感器布置在所述光刻装置的框架上。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，该方法包括使用干涉仪测量所述编码器的位置，其中，所述编码器和所述可移动的支撑件的所述已测量的位置被用于校准所述编码器。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，所述可移动的支撑件是具有顶表面的衬底台，该顶表面被配置以支撑衬底，其中，所述光栅布置在所述衬底台的顶表面上。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述光栅被配置以与z传感器配合，来提供所述衬底台沿大致垂直于所述衬底台的顶表面的方向的位置的测量。

11.一种光刻装置，包括：

构图装置支撑件，其被配置以支撑构图装置，所述构图装置适合于提供图案化的辐射束；

衬底支撑件，其被配置以支撑衬底；

投影系统，其被配置以将所述图案化的辐射束投影到所述衬底上；

编码器，其被配置以测量所述支撑件中的一个的位置，所述编码器包括传感器和光栅；

控制器，其被配置以基于由所述编码器提供的测量来控制所述一个支撑件的位置；

干涉仪，其被配置以测量所述一个支撑件的位置，以便校准所述编码器。

12.根据权利要求11所述的装置，其中，所述控制器被配置以基于所述干涉仪提供的测量来确定所述编码器的位置校正值或位置校正因数或上述两者。

13.根据权利要求12所述的装置，其中，所述控制器被配置以通过使用所述位置校正值或位置校正因数或上述两者来产生一维或多维校准矩阵。

14.根据权利要求12所述的装置，其中，所述位置校正值或位置校正因数或上述两者被确定以在测量所述一个支撑件的所述位置时对由所述编码器产生的潜在绝对测量误差进行校正。

15.根据权利要求11所述的装置，其中，所述一个支撑件是所述衬底支撑件。

16.根据权利要求11所述的装置，其中，所述光栅布置在所述一个支撑件上，所述传感器布置在所述光刻装置的框架上。

17.根据权利要求11所述的装置，其中，所述干涉仪被配置以测量所述编码器的位置，其中，所述编码器和所述一个支撑件的所述已测量的位置被用于校准所述编码器。

18.根据权利要求11所述的装置，其中，所述一个支撑件是具有顶表面的所述衬底支撑件，该顶表面被配置以支撑所述衬底，其中所述光栅布置在所述衬底支撑件的顶表面上。

19.根据权利要求18所述的装置，其中，所述光栅被配置以与z传感器配合，来提供所述衬底支撑件沿大致垂直于所述衬底支撑件的顶表面的方向的位置的测量。