[发明专利]碳化硅专用分散剂无效
申请号: | 200910229629.2 | 申请日: | 2009-10-27 |
公开(公告)号: | CN101696012A | 公开(公告)日: | 2010-04-21 |
发明(设计)人: | 杨天宇 | 申请(专利权)人: | 山东青州微粉有限公司 |
主分类号: | C01B31/36 | 分类号: | C01B31/36 |
代理公司: | 潍坊正信专利事务所 37216 | 代理人: | 石誉虎 |
地址: | 262500 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 碳化硅 专用 分散剂 | ||
技术领域
本发明涉及分散剂技术领域,具体涉及一种碳化硅专用分散剂。
背景技术
碳化硅作为一种高性能磨削材料,其分级精度至关重要,在分级操作中,分散是其基本前提,分散剂的选择就成为重中之重,现在所用的分散剂一类是阴离子型表面活性剂,一类是非离子型表面活性剂,但它们普遍存在以下几个方面缺点:成本高,用量大,有生物发酵现象,成品中存在分散剂残留。因此寻找一种成本低廉,用量少,有杀生作用且在成品中无残留的分散剂已成为当务之急。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种成本低、用量少、有杀生作用且在成品中无残留的碳化硅专用分散剂。
为解决上述技术问题,本发明的技术方案是:
碳化硅专用分散剂,其按重量百分比,由以下原料组成
去离子水 40%-80%
十二烷基苯磺酸钠 10%-40%
三乙醇胺 2%-20%
乙二胺四乙酸二钠 2%-10%
TX-10 0.5%-5%
异噻唑啉酮 0.1%-4%
增溶消泡剂 1%-4%。
其中,增溶消泡剂选用正丁醇。
所述异噻唑啉酮包括5-氯-2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮(CMI)和2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮(MI)。
本发明原料组分中使用去离子水能够避免水中金属离子的影响而降低分散剂的使用效果,保证产品品质;十二烷基苯磺酸钠为阴离子表面活性剂;TX-10即仲辛基酚聚氧乙烯(10)醚,为非离子表面活性剂;乙二胺四乙酸二钠为一种络合剂,起到水质软化的作用;三乙醇胺为碱性稳定剂;正丁醇为一种增溶消泡剂;异噻唑啉酮与微生物接触后,能迅速地不可逆地抑制其生长,从而导致微生物细胞的死亡,故对常见细菌、真菌等具有很强的抑制和杀灭作用,其杀生效率高,降解性好,具有不产生残留、操作安全、稳定性强、使用成本低等特点。
采用了上述技术方案后,本发明的有益效果是:
1.本发明碳化硅专用分散剂,组成成分中包含有阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂,将两种表面活性剂复配使用,能够产生良好的协同增效作用,大大提高了分散剂的使用效果,降低了使用量和生产成本。
2.本发明有杀灭微生物的作用,可以有效杀灭体系中存在的微生物,避免了生物发酵现象。
3.本发明易溶于水,在成品料中无残留,复合环境友好型要求,并且生物降解能力强,在排放的废水中可以完全自我降解,不会对环境造成污染。
表1为本发明与现有技术的使用效果对比。
表1
具体实施方式
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