[发明专利]含氟薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种含氟薄膜，其特征在于其是由以下重量份比的原料构成：

聚偏氟乙烯聚合物50-90份；

聚甲基丙烯酸类树脂10-40份；

添加剂0.5-10份。

2.根据权利要求1所述的含氟薄膜，其特征在于所述的聚偏氟乙烯聚合物为偏氟乙烯均聚物、偏氟乙烯与四氟乙烯(TFE)的共聚物或偏氟乙烯与六氟丙烯(HFP)的共聚物。

3.根据权利要求1所述的含氟薄膜，其特征在于所述聚甲基丙烯酸类树脂为甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯中的任意一种聚合物或者其组合。

4.根据权利要求1所述的含氟薄膜，其特征在于所述的添加剂为紫外光吸收剂、颜料、光稳定剂中的任意一种或者其组合。

5.根据权利要求4所述的含氟薄膜，其特征在于所述的紫外光吸收剂为苯并三唑类紫外光吸收剂或三嗪类紫外光吸收剂；所述的颜料为二氧化硅或二氧化钛；所述的光稳定剂为受阻胺光稳定剂或受阻酚光稳定剂。

6.一种如权利要求1所述的含氟薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

a)造粒，先将聚偏氟乙烯聚合物50-90份、聚甲基丙烯酸类树脂10-40份及添加剂0.5-10份混合，而后挤出造粒，控制挤出造粒的温度，得到粒料；

b)成膜，将粒料熔融挤出，得到非取向薄膜；

c)制取取向薄膜，将非取向薄膜拉伸，得到取向薄膜；

d)后处理，将取向薄膜依次进行热处理、切边和电晕，收卷得到含氟薄膜。

7.根据权利要求6所述的含氟薄膜的制备方法，其特征在于步骤a)中所述的控制挤出造粒的温度是将温度控制为200℃-220℃。

8.根据权利要求6所述的含氟薄膜的制备方法，其特征在于步骤b)中所述的熔融挤出的温度为200℃-220℃，所述的非取向薄膜为铸片法制得的非取向薄膜。

9.根据权利要求6所述的含氟薄膜的制备方法，其特征在于步骤c)中所述的将非取向薄膜拉伸所采用的方法为异步双向拉伸法、同步双向拉伸法或吹胀法。

10.根据权利要求6所述的含氟薄膜的制备方法，其特征在于步骤d)中所述的热处理的温度为150℃-180℃。