[发明专利]离线镀膜低辐射玻璃无效
申请号: | 200910238534.7 | 申请日: | 2009-12-01 |
公开(公告)号: | CN101708961A | 公开(公告)日: | 2010-05-19 |
发明(设计)人: | 李德杰 | 申请(专利权)人: | 李德杰 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 离线 镀膜 辐射 玻璃 | ||
技术领域
本发明属于玻璃制造和节能技术领域,特别涉及以含硅薄膜和组分渐变薄膜为介质层的低辐射玻璃,。
背景技术
建筑耗能大约占总能源消耗的30%,建筑节能潜力非常大。采用低辐射中空玻璃配合隔热窗框,可以将通过窗户的传热降低到普通窗户的25%左右,效果非常显著。低辐射玻璃是一种可以透过阳光中的大部分可见光,反射阳光中的部分近红外线,并具有很低的远红外线辐射系数的玻璃。在世界上发达国家,大部分建筑都采用这种低辐射玻璃。在我国,低辐射玻璃的应用还不十分广泛,主要原因是成本问题。由于售价比普通白玻璃高得多,因此只能用于高档建筑中,民用住宅很少采用。
低辐射玻璃分在线镀膜和离线镀膜两种。在线镀膜是在浮法玻璃生产线上采用化学方法镀制氧化锡薄膜,保温性能稍差。离线镀膜是采用磁控溅射方法在玻璃上沉积多层金属和介质薄膜,保温性能好。离线镀膜低辐射玻璃中的金属膜一般都采用银膜,按银膜的层数可分单银、双银和三银等,按介质薄膜成分可分为软膜和硬膜两种,按功能又可分为高透型和遮阳型等。软膜低辐射玻璃中的介质膜包括氧化锌、氧化锡两种,由于膜层较软,耐磨性差。由于这两种氧化物折射率较低,使得反射光颜色的调整范围受到一定限制。硬膜低辐射玻璃中的介质膜主要是二氧化钛。二氧化钛薄膜不但硬度高,而且折射率也高,颜色调整性能更好。硬膜的缺点是溅射速率低,用很多溅射靶同时工作才能达到一定的沉积速率。已有的离线低辐射玻璃还有一个明显的缺点是稳定性能差,生产出来后几天内必须封成中空玻璃,否则膜层性能将发生变化。即使封接成中空结构,由于软性封接材料的弱呼吸作用,氧气仍能缓慢进入其中,导致性能劣化。
由于离线镀膜低辐射玻璃存在的各种问题,使其在中国只能用于高档写字楼,还很难大规模推广。
发明内容
本发明针对现有技术中离线低辐射玻璃存在的不足和缺点,提供一种低辐射玻璃,使其不仅具有材料普通、性能稳定,完全不氧化等特点,而且解决了已有产品生产成本高的问题,可以推动低辐射节能玻璃的大规模应用。
本发明的技术方案为:
低辐射玻璃,具有单银层结构,其基本结构中,由下而上依次包括玻璃板10、第1介质层11、银层12、第2介质层13。本发明的技术特征在于:所述的各介质层由1至10个子层组成,构成子层的材料包括氧化锌薄膜、氧化锡薄膜、氧化铟锡薄膜、硅薄膜、硅和其它金属组成的以硅为主的硅合金薄膜、氧化硅薄膜、氧化硅合金薄膜、氮化硅薄膜、氮化硅合金薄膜等,构成子层的材料还包括铝、钛、锆、铪、铌、钽等金属及这些金属之间合金的氧化物和氮化物薄膜,构成子层的材料还包括沿玻璃表面法线方向上组分和折射率渐变分布的硅氧薄膜、硅合金氧薄膜、硅氮薄膜、硅合金氮薄膜、硅氧氮薄膜、硅合金氧氮薄膜,构成子层的材料还包括沿玻璃表面法线方向上组分和折射率渐变分布的铝、钛、锆、铪、铌、钽等金属及这些金属之间合金的氮薄膜。构成介质层的各个子层的薄膜可以相同,也可以不同,但至少有一个子层是由硅薄膜和硅合金薄膜中的一种构成,或者由沿玻璃表面法线方向上组分和折射率渐变分布的硅氧薄膜、硅合金氧薄膜、硅氮薄膜、硅合金氮薄膜、硅氧氮薄膜、硅合金氧氮薄膜中的一种构成,或者由沿玻璃表面法线方向上组分和折射率渐变分布的铝、钛、锆、铪、铌、钽等金属及这些金属之间合金的氮薄膜中的一种构成。
本发明的另一种技术方案为:
低辐射玻璃,具有双银层结构,其基本结构中,由下而上依次包括玻璃板20、第1介质层21、第1银层22、第2介质层23、第2银层24、第3介质层25。本发明的技术特征在于:所述的各介质层由1至10个子层组成,构成子层的材料包括氧化锌薄膜、氧化锡薄膜、氧化铟锡薄膜、硅薄膜、硅和其它金属组成的以硅为主的硅合金薄膜、氧化硅薄膜、氧化硅合金薄膜、氮化硅薄膜、氮化硅合金薄膜等,构成子层的材料还包括铝、钛、锆、铪、铌、钽等金属及这些金属之间合金的氧化物和氮化物,构成子层的材料还包括沿玻璃表面法线方向上组分和折射率渐变分布的硅氧薄膜、硅合金氧薄膜、硅氮薄膜、硅合金氮薄膜、硅氧氮薄膜、硅合金氧氮薄膜,构成子层的材料还包括沿玻璃表面法线方向上组分和折射率渐变分布的铝、钛、锆、铪、铌、钽等金属及这些金属之间合金的氮薄膜。构成介质层的各个子层的薄膜可以相同,也可以不同,但至少有一个子层是由硅薄膜和硅合金薄膜中的一种构成,或者由沿玻璃表面法线方向上组分和折射率渐变分布的硅氧薄膜、硅合金氧薄膜、硅氮薄膜、硅合金氮薄膜、硅氧氮薄膜、硅合金氧氮薄膜中的一种构成,或者由沿玻璃表面法线方向上组分和折射率渐变分布的铝、钛、锆、铪、铌、钽等金属及这些金属之间合金的氮薄膜中的一种构成。
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