[发明专利]一种太阳能选择性吸收涂层及其制备方法有效
申请号: | 200910241525.3 | 申请日: | 2009-11-25 |
公开(公告)号: | CN101737982A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 王聪;薛亚飞;刘宇 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | F24J2/48 | 分类号: | F24J2/48;C23C14/34;B32B9/04 |
代理公司: | 北京慧泉知识产权代理有限公司 11232 | 代理人: | 王顺荣;唐爱华 |
地址: | 100191 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 太阳能 选择性 吸收 涂层 及其 制备 方法 | ||
1.一种太阳能选择性吸收涂层,其特征在于:该涂层在吸热体基材表面 由底部到顶部形成三层膜结构,每层膜的组成成分及其配比如下:
第一层是红外反射层,由铜金属膜构成,用金属铜靶直流溅射方法,以氩气 作为溅射气体制备,如果采用抛光后的铜片或不锈钢片为基底,则用该基底直接 作为红外反射层,红外反射层对红外波段光谱具有高反射特性,发射率低;
第二层是吸收层,成分上由二硅化钼和三氧化二铝的混合物组成;结构上由 厚度和二硅化钼体积百分含量各不同的两亚层构成,这两个亚层对太阳光谱具有 本征吸收,同时通过厚度和二硅化钼体积分数的匹配形成干涉效应,加强了涂层 的吸收作用;
第三层为三氧化二铝减反射层,溅射气体为氩气,采用三氧化二铝陶瓷靶射 频溅射制备或者铝靶直流反应溅射制备;
所述第二层的第一亚层,其厚度为50~90nm,二硅化钼体积百分含量为 40%~60%,第二亚层的厚度为40~80nm,二硅化钼体积百分含量为20%~40%。
2.根据权利要求1所述的一种太阳能选择性吸收涂层,其特征在于:该吸热 体基材为玻璃片。
3.根据权利要求1所述的一种太阳能选择性吸收涂层,其特征在于:该吸热 体基材为铜片。
4.根据权利要求1所述的一种太阳能选择性吸收涂层,其特征在于:该吸热 体基材为不锈钢片。
5.根据权利要求1所述的一种太阳能选择性吸收涂层,其特征在于:所述 第一层红外反射层,其厚度为60~200nm。
6.根据权利要求1所述的一种太阳能选择性吸收涂层,其特征在于:所述 第三层的厚度为65nm。
7.根据权利要求1所述的一种太阳能选择性吸收涂层的制备方法,其特征在 于:其制备步骤如下:
步骤一:制备第一层红外反射层,在吸热体基材上溅射制备60-200nm的金 属铜红外反射层;如果选用抛光后的不锈钢片或铜片为基底,因为铜片和不锈钢 片的红外反射率已经很高,为了制备工艺的简便,直接采用该基底作为红外反射 层;
步骤二:制备第二层吸收层,选用纯度为99.99%的二硅化钼靶和三氧化二 铝靶,以直流、射频溅射制备二硅化钼和三氧化二铝的金属陶瓷混合层;吸收层 结构上由厚度和二硅化钼体积分数各不同的两个金属陶瓷层亚层构成;第一亚层 的厚度为50~90nm,二硅化钼体积百分含量为40%~60%,第二亚层的厚度为 40~80nm,二硅化钼体积百分含量为20%~40%;
步骤三:制备第三层65nm厚的三氧化二铝减反射层,溅射气体为氩气,采 用三氧化二铝陶瓷靶射频溅射制备或者铝靶直流反应溅射制备。
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