[发明专利]真空镀膜设备

权利要求书

1.一种真空镀膜设备，包括真空腔体(22)和用于控制真空腔体(22)内部压力的压力调节部件(24)，所述真空腔体(22)和所述压力调节部件(24)之间连接有沉积装置(27)，其特征在于，所述沉积装置(27)包括沉积腔体(271)和位于所述沉积腔体(271)内的阻隔部件，所述阻隔部件与所述沉积腔体(271)的侧壁形成弯曲的气流通道。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述阻隔部件为隔板(272)，且所述隔板(272)上相对的两端中的第一端安装于所述沉积腔体(271)的侧壁，第二端距离所述沉积腔体(271)的侧壁适当距离。

3.根据权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述隔板包括第一隔板(2721)和第二隔板(2722)，所述侧壁包括相对设置的第一侧壁(2711)和第二侧壁(2712)；所述第一隔板(2721)的第一端安装于所述第一侧壁(2711)，其第二端距离所述第二侧壁(2712)适当距离；所述第二隔板(2721)的第一端安装于所述第二侧壁(2712)，其第二端距离所述第一侧壁(2711)适当距离。

4.根据权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一隔板(2721)的数目和所述第二隔板(2722)的数目均为多个，且二者沿所述气体的流通方向间隔设置。

5.根据权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一侧壁(2711)和所述第二侧壁(2712)分体设置。

6.根据权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述隔板(272)具有平面结构或者弧面结构。

7.根据权利要求1至6任一项所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述沉积装置(27)还包括收集腔(276)，所述收集腔(276)安装于所述沉积腔体(271)的下方，且所述收集腔(276)的顶壁与所述沉积腔体(271)的底壁相通。

8.根据权利要求7所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述收集腔(276)的侧壁设置有观察窗(275)。

9.根据权利要求8所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述收集腔(276)的侧壁设置有排出口。

10.根据权利要求1至6任一项所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述沉积装置(27)还包括温度调节部件(277)，用于改变所述沉积腔体(271)的温度。

11.根据权利要求10所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述温度调节部件(277)为水管，所述水管绕于所述沉积腔体(271)的外侧。

12.根据权利要求1至6任一项所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述沉积装置(27)还包括振动部件，用于使所述沉积腔体(271)振动。

13.根据权利要求12所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述振动部件为由动力部件驱动的凸轮，所述凸轮安装于所述沉积腔体(271)的下方。

14.根据权利要求1至6任一项所述的真空镀膜设备，其特征在于，还包括旁路管道和旁路截止阀(25)，所述旁路管道在所述旁路截至阀(25)的作用下可选择地连通所述真空腔体(22)和所述压力调节部件(24)。