[发明专利]用于等离子体加工设备的电极板和清除工艺沉积物的方法有效
| 申请号： | 200910242684.5 | 申请日： | 2009-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN102098863A | 公开（公告）日： | 2011-06-15 |
| 发明（设计）人： | 白志民 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01L21/00;C23C16/513 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100026 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 加工 设备 极板 清除 工艺 沉积物 方法 | ||
1.一种用于等离子体加工设备的电极板，由导电材料制成，其特征在于，所述电极板的一侧板面为凸起和凹槽形成的曲面。
2.根据权利要求1所述的电极板，其特征在于，
所述曲面为凸起和凹槽形成的波浪状曲面；
所述凸起包括多个条状凸起，所述条状凸起贯穿所述曲面的纵向板面，各所述条状凸起之间形成所述凹槽。
3.根据权利要求2所述的电极板，其特征在于，所述条状凸起的高度为0.3～1mm。
4.根据权利要求3所述的电极板，其特征在于，所述条状凸起的高度为0.5mm。
5.根据权利要求2所述的电极板，其特征在于，相邻所述条状凸起之间的间距为1～2mm。
6.根据权利要求5所述的电极板，其特征在于，相邻所述条状凸起之间的间距为1.5mm。
7.根据权利要求1所述的电极板，其特征在于，所述凸起包括多个包状凸起，各所述包状凸起之间形成所述凹槽。
8.根据权利要求7所述的电极板，其特征在于，其特征在于，所述包状凸起的高度为0.3～1mm。
9.根据权利要求8所述的电极板，其特征在于，所述包状凸起的高度为0.5mm。
10.根据权利要求7所述的电极板，其特征在于，相邻所述包状凸起之间的间距为1～2mm。
11.根据权利要求10所述的电极板，其特征在于，相邻所述包状凸起之间的间距为1.5mm。
12.一种用于等离子体加工设备的清除工艺沉积物的方法，其特征在于，
包括：采用高频等离子体轰击一侧板面为凸起和凹槽形成的曲面的上电极。
13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述高频的频率为10～100MHz。
14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述高频的频率为13.56MHz。
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