[发明专利]小基高比立体测绘光学系统有效
| 申请号： | 200910242899.7 | 申请日： | 2009-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN101718550A | 公开（公告）日： | 2010-06-02 |
| 发明（设计）人： | 傅丹膺;杨秉新;方勇;李博;曾勇强;李瀛搏;王建永;姚罡 | 申请（专利权）人： | 北京空间机电研究所 |
| 主分类号： | G01C11/02 | 分类号： | G01C11/02 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 安丽 |
| 地址： | 10007*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 小基高 立体 测绘 光学系统 | ||
【权利要求书】：
1.小基高比立体测绘光学系统，其特征在于包括：共用主镜(1)、共用次镜(2)、共用三镜(3)、共用平面折转镜(4)和接收像面(5)；共用主镜(1)、共用次镜(2)和共用三镜(3)同轴并作为光学系统的主光轴，共用主镜(1)上设置两个中心对称的通光孔，两个不同视场的夹角为1°～6°的视场光线从左侧以主光轴为中心对称入射至共用主镜(1)上，经过共用主镜(1)及共用次镜(2)反射之后分别透过两个通光孔到达共用三镜(3)；共用平面折转镜(4)位于共用主镜(1)的右侧且位于两个通光孔之间，共用三镜(3)反射的光线经共用平面折转镜(4)反射到达两组分立的接收像面(5)后各自成像；所述的共用主镜(1)、共用次镜(2)、共用三镜(3)的面形均为非球面反射镜；所述的共用主镜(1)、共用次镜(2)、共用三镜(3)的材料为碳化硅，或微晶玻璃，或熔石英；所述的接收像面(5)为面阵、线阵CCD或TDICCD探测器接收面。
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