[发明专利]足弓矫正器鞋组及该鞋组内部足底压力平衡的微调方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种足弓矫正器鞋组及该鞋组内部足底压力平衡的微调方法。

背景技术

人类的足部包含26块骨骼，是由复杂且致密的韧带和筋膜包围连结，整个足部就像拱形或弓形结构，具有良好的弹性，能承受来自身体重量的压力，以供我们走路、跑步和跳跃。然而由于先天或后天的影响，有些足部的足弓不完整，不但会让足底的压力分布失调，还会影响到步态，身体的重心也会转换到不正确的位置，于是足底、膝盖、骨盆、脊椎的受压失衡，长久以后即会发生一些病症。例如「扁平足」的足弓塌陷，力量偏内侧，走路呈内八字，且胫骨内转、骨盆内旋，形成X型腿，容易造成膝盖外侧磨损，而「高弓足」的足弓过高，力量偏外侧，走路呈外八字，且胫骨外转、骨盆外旋，形成O型腿，容易造成膝盖内侧磨损。

为此目前市面上已出现有一种用来矫正足底脚型的足弓矫正器，可借以改善足部的力学机制，导正扁平足和高弓足不正常的内、外旋动作，用以矫正脚型使之趋向正常的生理角度。然而，由于足部是由许多的骨头以及关节组成，随着年龄的增长，肌肉、韧带和关节都会发生松弛或病变，而且在人体的重量压迫下就会出现很多问题，更何况以前已经形成磨损或偏转的部位，此时只借由提供正常脚型的规格式足弓矫正器来矫正，已不足以让身体脊骨完全回复平衡。足弓矫正器虽已提供标准应矫正至正常位置的规格，但是每个人脚底情况不同，过去旧习惯所导致的状态可能被使用人员习以为常，使用足弓矫正器一段时间后，反而会产生新的不平衡及新的不舒服点。

由此可见，上述现有的用来矫正足底脚型的足弓矫正器在使用上，显然仍存在有不便与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般产品及方法又没有适切的结构及方法能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新的足弓矫正器鞋组及该鞋组内部足底压力平衡的微调方法，实属当前重要研发课题之一，亦成为当前业界极需改进的目标。

有鉴于上述现有的用来矫正足底脚型的足弓矫正器存在的缺陷，本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理的运用，积极加以研究创新，以期创设一种新的足弓矫正器鞋组及该鞋组内部足底压力平衡的微调方法，能够改进一般现有的用来矫正足底脚型的足弓矫正器，使其更具有实用性。经过不断的研究、设计，并经过反复试作样品及改进后，终于创设出确具实用价值的本发明。

发明内容

本发明的主要目的在于，克服现有的用来矫正足底脚型的足弓矫正器存在的缺陷，而提供一种新的足弓矫正器鞋组及该鞋组内部足底压力平衡的微调方法，所要解决的技术问题是使其可微调使得足底压力由不平衡趋向于平衡，非常适于实用。

本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种足弓矫正器鞋组，用于供人体的一个足部穿着，并包含：一个鞋底装置，该鞋底装置形成有一个对应所述足部的一个脚跟的鞋跟区，该鞋底装置包括一个中底片，及一个可拆离地安装在该中底片上方以供所述足部踏置的足弓矫正器；其中该足弓矫正器鞋组还包含：一个垫片装置，该垫片装置包括一个可拆离地安装在该鞋底装置内的偏置垫片单元，该偏置垫片单元是对应位于该鞋底装置涵盖有鞋跟区的一个后半段区域，且位于该后半段区域的一个右半部位与一个左半部位的其中一个部位上。

本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。

前述的足弓矫正器鞋组，其中所述的鞋底装置还包括一个对应迭置在该中底片上方且位于该足弓矫正器下方的内衬片，该偏置垫片单元是安装在该中底片与内衬片间。

前述的足弓矫正器鞋组，其中所述的鞋底装置还包括一个对应迭置在该中底片上方且位于该足弓矫正器下方的内衬片，该偏置垫片单元是安装在该中底片与内衬片间，以及该内衬片与足弓矫正器间。

前述的足弓矫正器鞋组，其中所述的偏置垫片单元具有至少一片呈扇形的侧顶垫片，该侧顶垫片是可拆离地安装在该鞋底装置的后半段区域的右半部位与左半部位的其中一个部位上，且位于该鞋跟区前方，该侧顶垫片的边缘对齐该鞋底装置的边缘，该侧顶垫片的直径为15mm至45mm。

前述的足弓矫正器鞋组，其中所述的偏置垫片单元具有至少一片呈圆形的微调垫片，该微调垫片是可拆离地安装在该鞋底装置的后半段区域的右半部位与左半部位的其中一个部位上，且位于该鞋跟区前方，该微调垫片局部凸露出该鞋底装置的边缘外，该微调垫片的直径为15mm至45mm。