[发明专利]采用数字相移的无掩模光刻方法和装置无效

专利信息
申请号: 200910247935.9 申请日: 2009-12-31
公开(公告)号: CN102117015A 公开(公告)日: 2011-07-06
发明(设计)人: 周成刚;程谟嵩 申请(专利权)人: 上海科学院
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 骆希聪
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 采用 数字 相移 无掩模 光刻 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种采用数字相移的无掩模光刻装置,包括:

照明系统,用以提供照明光;

分束器,将所述照明光分成第一光束和第二光束,分别投向一第一空间光调制器和一第二空间光调制器;

所述第一空间光调制器,将第一光束调制成所需要形成的曝光图案的第一子图案,且经所述分束器投射至一投影光学系统;

所述第二空间光调制器,将第二光束调制成所需要形成的曝光图案的第二子图案,且经所述分束器投射至一投影光学系统,其中第一子图案和第二子图案交错;

投影光学系统,将所述第一光束和第二光束投影至一光刻对象,以在光刻对象上组合形成所述曝光图案,其中投射到光刻对象的第一子图案和第二子图案的相邻结构的相位差为180度。

2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,还包括:

曝光控制系统,用以控制所述照明系统的照明光。

3.如权利要求1所述的装置,其特征在于,还包括:

第一光学装置,设置在所述分束器和所述第一空间光调制器之间。

4.如权利要求1所述的装置,其特征在于,还包括:

第二光学装置,设置在所述分束器和所述第二空间光调制器之间。

5.如权利要求1所述的装置,其特征在于,还包括:

扫描平台,用以承载所述光刻对象;以及

扫描控制系统,用以移动所述扫描平台,以转换曝光场。

6.一种采用如权利要求1-5任一项所述的装置的无掩模光刻方法,包括:

将所需要形成的曝光图案按相位分解成第一子图案和第二子图案,分别输入第一空间光调制器和第二空间光调制器,其中第一子图案和第二子图案交错;

分别在第一空间光调制器和第二空间光调制器上控制像素点,以形成表示第一子图案和第二子图案的光束;以及

确保投射到光刻对象的第一子图案和第二子图案的相邻结构的相位差为180度。

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